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This is a superb state-of-the-art collection of contributed readings, by nationally recognized authorities in VLSI technology. The emphasis of this text is on fabrication.
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Contenuti:
Chapter 1: Crystal Growth and water prepreparation
Chapter 2: Epitaxy
Chapter 3: Oxidation
Chapter 4: Lithography
Chapter 5: Reactive Plasma Etching
Chapter 6: Dielectric and Polysilicon Film Deposition
Chapter 7: Diffusion, Ion Implementation
Chapter 8: Metallization
Chapter 9: Process Simulation
Chapter 10: LSI Process Integration
Chapter 11: Analytical Techniques
Chapter 12: Assembly techniques and Packaging of VLSI Devices
Chapter 13: Yield and Reliability
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- EditoreMcGraw Hill / Asia
- Data di pubblicazione1998
- ISBN 10 0071003479
- ISBN 13 9780071003476
- RilegaturaCopertina flessibile
- Numero edizione2
- Numero di pagine688
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