Le informazioni nella sezione "Riassunto" possono far riferimento a edizioni diverse di questo titolo.
Le informazioni nella sezione "Su questo libro" possono far riferimento a edizioni diverse di questo titolo.
Spese di spedizione:
EUR 3,75
In U.S.A.
Descrizione libro Condizione: New. pp. 344. Codice articolo 26263086
Descrizione libro Condizione: New. pp. 344 50:B&W 7.44 x 9.69 in or 246 x 189 mm (Crown 4vo) Perfect Bound on White w/Gloss Lam. Codice articolo 7584881
Descrizione libro Condizione: New. Codice articolo ABLIING23Feb2215580238942
Descrizione libro Condizione: new. Questo è un articolo print on demand. Codice articolo 348474e3fa45c8a9d432d9c946c9e193
Descrizione libro Condizione: New. PRINT ON DEMAND Book; New; Fast Shipping from the UK. No. book. Codice articolo ria9780521022347_lsuk
Descrizione libro PF. Condizione: New. Codice articolo 6666-IUK-9780521022347
Descrizione libro Paperback. Condizione: Brand New. 341 pages. 9.60x7.40x0.90 inches. In Stock. Codice articolo __0521022347
Descrizione libro Paperback / softback. Condizione: New. This item is printed on demand. New copy - Usually dispatched within 5-9 working days. Codice articolo C9780521022347
Descrizione libro Condizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. This book describes advanced techniques under development in Japan and elsewhere that represent the key to future semiconductor-device fabrication. Several important lithography methods, such as deep UV, X-ray, electron-beam, and focused ion-beam lithograph. Codice articolo 446921243
Descrizione libro Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Describes advanced techniques under development that represent the key to future semiconductor-device fabrication. Codice articolo 9780521022347