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The technique of ionized-cluster beam (ICB) deposition, the fundamentals of ICB technology, and technical applications of thin films produced by ICB deposition are presented in a single volume to give a coherent presentation to all those interested or working in the field.
ICB processes are well characterized and reliable equipment is available. The films deposited are often superior to those deposited by either evaporation or sputtering, and the range of control of the process exceeds other techniques by a great margin.
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Book by Takagi Toshinori
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- EditoreWilliam Andrew
- Data di pubblicazione1989
- ISBN 10 081551168X
- ISBN 13 9780815511687
- RilegaturaCopertina rigida
- Numero edizione1
- Numero di pagine239
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Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy (Materials Science and Process Technology Series)
Editore:
William Andrew
(1990)
ISBN 10: 081551168X
ISBN 13: 9780815511687
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Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy (Materials Science and Process Technology Series)
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Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy
Editore:
Noyes Publications, New York
(1989)
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