Heterojunctions for High-speed and Infrared Applications: Advances in Research Development Heterojunctions for High-Speed and Infrared Applications: ... for Microelectronic Applications: Volume 23 - Rilegato
Sinossi
Significant progress has occurred during the last few years in device technologies and these are surveyed in this new volume. Included are Si/(Si-Ge) heterojunctions for high-speed integrated circuits, Schottky-barrier arrays in Si and Si-Ge alloys for infrared imaging, III-V quantum-well detector structures operated in the heterodyne mode for high-data-rate communications, and III-V heterostructures and quantum-wells for infrared emissions.
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Physics of Thin Films: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications (Volume 23)
Da: Anybook.com, Lincoln, Regno Unito
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Condizione: Good. Volume 23. This is an ex-library book and may have the usual library/used-book markings inside.This book has hardback covers. Clean from markings In good all round condition. No dust jacket. Please note the Image in this listing is a stock photo and may not match the covers of the actual item,700grams, ISBN:9780125330237. Codice articolo 9701488
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Advances in Research and Development Vol. 23 : Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications
Editore:
Elsevier Science & Technology, 1997
ISBN 10: 0125330235
ISBN 13: 9780125330237
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Da: Better World Books: West, Reno, NV, U.S.A.
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Advances in Research and Development Vol. 23 : Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications
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Elsevier Science & Technology, 1997
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Da: Better World Books, Mishawaka, IN, U.S.A.
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Condizione: Good. Former library copy. Pages intact with minimal writing/highlighting. The binding may be loose and creased. Dust jackets/supplements are not included. Includes library markings. Stock photo provided. Product includes identifying sticker. Better World Books: Buy Books. Do Good. Codice articolo 11077123-6
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Thin Films - Advances In Research And Development Modeling Of Film Deposition For Microelectronic Applications
Da: Basi6 International, Irving, TX, U.S.A.
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ADVANCE IN RESEARCH AND DEVELOPMENT
Da: Basi6 International, Irving, TX, U.S.A.
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Thin Films - Advances In Research And Development Modeling Of Film Deposition For Microelectronic Applications
Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.
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Advances in Research and Development
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
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ADVANCE IN RESEARCH AND DEVELOPMENT
Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.
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Advances in Research and Development
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
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Condizione: New. pp. 332 14:B&W 6 x 9 in or 229 x 152 mm Case Laminate on White w/Gloss Lam. Codice articolo 7427675
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Advances in Research and Development
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
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