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Sinossi
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
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L'autore
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
Contenuti
- 1: Introduction
- 2: RF discharges
- 3: Physical basis of plasma etching process
- 4: Diagnostics of plasma particles and potentials
- 5: Technology of reactive ion etching
- 6: Magnetic field coupled etchers
- 7: ECR plasma etchers
- 8: Future propects
- Index
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- EditoreOUP Oxford
- Data di pubblicazione1998
- ISBN 10 019856287X
- ISBN 13 9780198562870
- RilegaturaCopertina rigida
- LinguaInglese
- Numero di pagine356
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