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Sinossi
Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.
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L'autore
Brian Chapman is the author of Glow Discharge Processes: Sputtering and Plasma Etching, published by Wiley.
Product Description
Book by Chapman Brian
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- EditoreWiley-Interscience
- Data di pubblicazione1980
- ISBN 10 047107828X
- ISBN 13 9780471078289
- RilegaturaCopertina rigida
- LinguaInglese
- Numero edizione1
- Numero di pagine406
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