Sinossi
Presents state-of-the-art research in microelectronic processing for very large scale integration. Emphasizing applications and techniques, this book provides considerable insight into Japan's technological effort in this important area of science. Focuses on research involving plasma deposition and dry etching. Considerable attention is devoted to MOS gate fabrication, the studies of the influence of process parameters on electrical properties, dry processing technologies, and the theory of plasma chemical reactions.
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Risultati della ricerca per Applications of Plasma Processes to Vlsi Technology
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Editore:
Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Da: Charles Berry, Bookseller, Lakeport, CA, U.S.A.
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Hardcover. Condizione: Very Good. Hardcover without DJ in excellent condition: slight handling, owner's name neatly rubber-stamped on top and lower page edges, otherwise unmarked. 394 pages. Bright spine gilt on dark blue. [1.6 lbs]. Book. Codice articolo 068587
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Applications of Plasma Processes to Vlsi Technology
Da: Bookmans, Tucson, AZ, U.S.A.
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Editore:
Wiley-Interscience, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Da: CONTINENTAL MEDIA & BEYOND, Ocala, FL, U.S.A.
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Condizione: Used: Acceptable. 1985 hardcover no dj xlibrary copy withdrawn stamp on edge of pages/ in book clean text has age spots has book plate and card pocket 394 pages::: H-10. Codice articolo 0611IZ6DHVJ
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Editore:
John Wiley & Sons, New York, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Da: A & I PEDERSEN, Macclesfield, CHS, Regno Unito
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Hard Cover. First English Language Edition. Hard blue covers, content is as new, ex library copy with usual stamps and labels, no pocket and no external markings, otherwise a fine copy, pp xiv,394. Text figures and diagrams throughout. Size: 16x24cm. Codice articolo 005143
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