Sinossi
This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.
Le informazioni nella sezione "Riassunto" possono far riferimento a edizioni diverse di questo titolo.
Informazioni sull?autore
Prof. Seiji Samukawa
Distinguished Professor in Tohoku University
Professor in Institute of Fluid Science,
Professor and Principal Investigator, WPI-AIMR in Tohoku University.
Le informazioni nella sezione "Su questo libro" possono far riferimento a edizioni diverse di questo titolo.
Altre edizioni note dello stesso titolo
Risultati della ricerca per Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using...
Foto dell'editore
Samukawa:Feature Profile Evolution in P (eng)
Print on DemandDa: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Valutazione del venditore 3 su 5 stelle
Condizione: new. Questo è un articolo print on demand. Codice articolo 07c7fcfb420474716b2a428b0b425024
Compra nuovo
EUR 46,22
Spedizione EUR 4,00
Spedito da Italia a U.S.A.
Spedito da Italia a U.S.A.
Quantità: Più di 20 disponibili
Immagini fornite dal venditore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: As New. Unread book in perfect condition. Codice articolo 21053370
Compra usato
EUR 61,98
Spedizione EUR 2,30
Spedito in U.S.A.
Spedito in U.S.A.
Quantità: 15 disponibili
Foto dell'editore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System (SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology)
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New. In. Codice articolo ria9784431547945_new
Compra nuovo
EUR 58,60
Spedizione EUR 13,81
Spedito da Regno Unito a U.S.A.
Spedito da Regno Unito a U.S.A.
Quantità: Più di 20 disponibili
Foto dell'editore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New. Codice articolo 21053370-n
Compra nuovo
EUR 72,21
Spedizione EUR 2,30
Spedito in U.S.A.
Spedito in U.S.A.
Quantità: 15 disponibili
Immagini fornite dal venditore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Print on DemandDa: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Taschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described. 52 pp. Englisch. Codice articolo 9784431547945
Compra nuovo
EUR 53,49
Spedizione EUR 23,00
Spedito da Germania a U.S.A.
Spedito da Germania a U.S.A.
Quantità: 2 disponibili
Foto dell'editore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System (SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology)
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Paperback. Condizione: Brand New. 2014 edition. 40 pages. 8.75x6.00x0.25 inches. In Stock. Codice articolo x-4431547940
Compra nuovo
EUR 75,55
Spedizione EUR 11,53
Spedito da Regno Unito a U.S.A.
Spedito da Regno Unito a U.S.A.
Quantità: 2 disponibili
Immagini fornite dal venditore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Da: moluna, Greven, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New. Codice articolo 5753145
Compra nuovo
EUR 48,37
Spedizione EUR 48,99
Spedito da Germania a U.S.A.
Spedito da Germania a U.S.A.
Quantità: Più di 20 disponibili
Immagini fornite dal venditore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Editore:
Springer, Springer Feb 2014, 2014
ISBN 10: 4431547940
ISBN 13: 9784431547945
Nuovo
Taschenbuch
Da: buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Taschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 52 pp. Englisch. Codice articolo 9784431547945
Compra nuovo
EUR 53,49
Spedizione EUR 60,00
Spedito da Germania a U.S.A.
Spedito da Germania a U.S.A.
Quantità: 1 disponibili
Immagini fornite dal venditore
Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System
Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book provides for the first time a good understanding of the etching profile technologies that do not disturb the plasma. Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data. Readers are made familiar with these sensors, which can measure real plasma process surface conditions such as defect generations due to UV-irradiation, ion flight direction due to charge-up voltage in high-aspect ratio structures and ion sheath conditions at the plasma/surface interface. The plasma etching profile realistically predicted by a computer simulation based on output data from these sensors is described. Codice articolo 9784431547945
Compra nuovo
EUR 58,39
Spedizione EUR 60,48
Spedito da Germania a U.S.A.
Spedito da Germania a U.S.A.
Quantità: 1 disponibili