Advanced Measurement, Imaging, and Instruments
Lingua: inglese
Editore: Springer Nature Singapore Jun 2026, 2026
- Rilegato
- Nuovo
Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, GermaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book includes original, peer-reviewed research papers from the 16th International Symposium on Measurement Technology and Intelligent Instruments (ISMTII 2025) and the 3rd International Conference of Optical Imaging and Measurement (ICOIM 2025), held in Wuhan, China on May 25 28, 2025. The topics covered include but are not limited to: Measurement and characterization for atomic-level manufacturing, micro and nanometrology, quantum sensing and instruments, metrology and instruments for integrated circuits, in-process and inline metrology, optical metrology and inspection, surface metrology, material characterization, machine learning and signal processing, intelligent instrument for automation, sensors and actuators, uncertainty, traceability and calibration, optical imaging, optical technology, application and precision measurement, optical measurement, photoelectric device, optoelectronics and communication, biomedical optics, and optical material.The papers showcased here share the latest findings on optical metrology, optical imaging, nanometrology, intelligent systems, and process control, making the book a valuable asset for researchers, engineers, and university students alike. 433 pp. Englisch. …
Codice articolo 9789819581450
- Titolo
- Advanced Measurement, Imaging, and Instruments
- Autore
- Jinlong Zhu
- Editore
- Springer Nature Singapore Jun 2026
- Anno di pubblicazione
- 2026
- Condizione
- Neu
- Rilegatura
- Buch
- Lingua
- inglese
- ISBN 10
- 9819581451
- ISBN 13
- 9789819581450
- Dimensioni
- 235x155x35 mm
This book includes original, peer-reviewed research papers from the 16th International Symposium on Measurement Technology and Intelligent Instruments (ISMTII 2025) and the 3rd International Conference of Optical Imaging and Measurement (ICOIM 2025), held in Wuhan, China on May 25–28, 2025. The topics covered include but are not limited to: Measurement and characterization for atomic-level manufacturing, micro and nanometrology, quantum sensing and instruments, metrology and instruments for integrated circuits, in-process and inline metrology, optical metrology and inspection, surface metrology, material characterization, machine learning and signal processing, intelligent instrument for automation, sensors and actuators, uncertainty, traceability and calibration, optical imaging, optical technology, application and precision measurement, optical measurement, photoelectric device, optoelectronics and communication, biomedical optics, and optical material.
The papers showcased here share the latest findings on optical metrology, optical imaging, nanometrology, intelligent systems, and process control, making the book a valuable asset for researchers, engineers, and university students alike.
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Informazioni sull’autore
Jinlong Zhu received the Ph.D. degree in mechanical engineering from Huazhong University of Science and Technology (HUST), Wuhan, China, in 2015. From 2015 to 2020, he worked as a post-doctoral researcher at the University of Illinois Urbana-Champaign, Champaign, IL, USA. He became a professor with Huazhong University of Science and Technology in 2020. He conducts research on basic science and engineering at the intersection of optical physics, nanodevices, semiconductor integrated circuit (IC) chips in industrial robots, and machine learning.
Shiyuan Liu received his Ph.D. in mechanical engineering from Huazhong University of Science and Technology (HUST), Wuhan, China in 1998, and worked as a visiting scholar at University of Manchester, UK, from 2000 to 2001. He has become a full professor with HUST since 2005 and is currently the director of the Precision Instrument Research Center (PIRC) at HUST. He was elected as a fellow of the Institute of Physics (IOP) and a board member of the International Committee of Measurement and Instrumentation (ICMI). His main research interests are computational imaging and computational lithography, nanometrology and instrumentation, and inline measurement and inspection for semiconductor manufacturing.
Shuming Yang is a full professor of Xi'an Jiaotong University (XJTU), China. He achieved bachelor degree and master degree from Xi'an Jiaotong University and Ph.D. from the University of Huddersfield. His main research interests include nanofabrication and measurement, optical measurement and instrumentation, intelligent manufacturing etc. He was elected as a fellow of the International Society for Nanomanufacturing (ISNM), and is the current president of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN) etc. He is also an editor or a guest editor of JMS, IJPEM-GT, NMME, PE, IJRAT, FME, IJEM, MST, IJAMT, Photonics etc. He delivered plenary/keynote/invited talks in academic conferences over 100 times.
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