Directed Self-Assembly of Block Co-Polymers for Nano-Manufacturing (Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials)
Lingua: inglese
Editore: Woodhead Publishing 2015-08-10, 2015
Serie: Libro 89 di 203 - Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials
- Rilegato
- Nuovo
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Codice articolo 6666-GRD-9780081002506
- Titolo
- Directed Self-Assembly of Block Co-Polymers for Nano-Manufacturing (Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials)
- Autore
- Roel Gronheid, Paul Nealey
- Editore
- Woodhead Publishing 2015-08-10
- Anno di pubblicazione
- 2015
- Condizione
- New
- Rilegatura
- Hardcover
- Lingua
- inglese
- ISBN 10
- 0081002505
- ISBN 13
- 9780081002506
- Serie
- Libro 89 di 203: Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials
The directed self-assembly (DSA) method of patterning for microelectronics uses polymer phase-separation to generate features of less than 20nm, with the positions of self-assembling materials externally guided into the desired pattern. Directed self-assembly of Block Co-polymers for Nano-manufacturing reviews the design, production, applications and future developments needed to facilitate the widescale adoption of this promising technology.
Beginning with a solid overview of the physics and chemistry of block copolymer (BCP) materials, Part 1 covers the synthesis of new materials and new processing methods for DSA. Part 2 then goes on to outline the key modelling and characterization principles of DSA, reviewing templates and patterning using topographical and chemically modified surfaces, line edge roughness and dimensional control, x-ray scattering for characterization, and nanoscale driven assembly. Finally, Part 3 discusses application areas and related issues for DSA in nano-manufacturing, including for basic logic circuit design, the inverse DSA problem, design decomposition and the modelling and analysis of large scale, template self-assembly manufacturing techniques.
- Authoritative outlining of theoretical principles and modeling techniques to give a thorough introdution to the topic
- Discusses a broad range of practical applications for directed self-assembly in nano-manufacturing
- Highlights the importance of this technology to both the present and future of nano-manufacturing by exploring its potential use in a range of fields
"Riassunto" può appartenere a un’altra edizione di questo titolo.
Dalla quarta di copertina
The directed self-assembly (DSA) method of patterning for microelectronics uses polymer phase-separation to generate features of less than 20nm, with the positions of self-assembling materials externally guided into the desired pattern. Directed self-assembly of semiconductor nanostructures reviews the design, production, applications and future developments needed to facilitate the widescale adoption of this promising technology.
Beginning with a solid overview of the physics and chemistry of block copolymer (BCP) materials, Part 1 covers the synthesis of new materials and new processing methods for DSA. Part 2 then goes on to outline the key modelling and characterization principles of DSA, reviewing templates and patterning using topographical and chemically modified surfaces, line edge roughness and dimensional control, x-ray scattering for characterization, and nanoscale driven assembly. Finally, Part 3 discusses application areas and related issues for DSA in nano-manufacturing, including for basic logic circuit design, the inverse DSA problem, design decomposition and the modelling and analysis of large scale, template self-assembly manufacturing techniques.
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