Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing
Lingua: inglese
Editore: Elsevier Science, 2010
- Rilegato
- Nuovo
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nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - This updated version of the popular handbook further explains all aspects of physical vapor deposition (PVD) process technology from the characterizing and preparing the substrate material, through deposition processing and film characterization, to post-deposition processing. The emphasis of the new edition remains on the aspects of the process flow that are critical to economical deposition of films that can meet the required performance specifications, with additional information to support the original material. The book covers subjects seldom treated in the literature: substrate characterization, adhesion, cleaning and the processing. The book also covers the widely discussed subjects of vacuum technology and the fundamentals of individual deposition processes. However, the author uniquely relates these topics to the practical issues that arise in PVD processing, such as contamination control and film growth effects, which are also rarely discussed in the literature. In bringing these subjects together in one book, the reader can understand the interrelationship between various aspects of the film deposition processing and the resulting film properties. The author draws upon his long experience with developing PVD processes and troubleshooting the processes in the manufacturing environment, to provide useful hints for not only avoiding problems, but also for solving problems when they arise. He uses actual experiences, called 'war stories', to emphasize certain points. Special formatting of the text allows a reader who is already knowledgeable in the subject to scan through a section and find discussions that are of particular interest. The author has tried to make the subject index as useful as possible so that the reader can rapidly go to sections of particular interest. Extensive references allow the reader to pursue subjects in greater detail if desired. The book is intended to be both an introduction for those who are new to the field and a valuable resource to those already in the field. The discussion of transferring technology between R&D and manufacturing provided in Appendix 1, will be of special interest to the manager or engineer responsible for moving a PVD product and process from R&D into production. Appendix 2 has an extensive listing of periodical publications and professional societies that relate to PVD processing. The extensive Glossary of Terms and Acronyms provided in Appendix 3 will be of particular use to students and to those not fully conversant with the terminology of PVD processing or with the English language. …
Codice articolo 9780815520375
- Titolo
- Handbook of Physical Vapor Deposition (PVD) Processing
- Autore
- Donald M Mattox
- Editore
- Elsevier Science
- Anno di pubblicazione
- 2010
- Condizione
- Neu
- Rilegatura
- Buch
- Lingua
- inglese
- ISBN 10
- 0815520379
- ISBN 13
- 9780815520375
- Edizione
- seconda edizione
- Peso dell'articolo
- 1433 grammi
- Dimensioni
- 244x198x48 mm
This book covers all aspects of Physical Vapor Deposition (PVD) process technology from characterizing and preparing the substrate material, through deposition processing and film characterization, to post-deposition processing. The emphasis of the book is on the aspects of the process flow that are critical to reproducible deposition of films that have the desired properties.
This book covers both widely discussed subjects such as vacuum technology, film properties, and the fundamentals of individual deposition processes and neglected areas such as film adhesion, substrate surface characterization, and the external processing environment. The author relates these subjects to the practical issues that arise in PVD processing, such as contamination control and substrate property effects on film growth, which are often not discussed or even mentioned in other literature. By bringing these subjects together in one book, the author has made it possible for the reader to better understand the interrelationship between various aspects of film deposition processing and the resulting film properties.
Don Mattox draws upon his long experience with developing PVD processes and products, troubleshooting the processes in the manufacturing environment, consulting, and teaching short courses on PVD processing, to not only present the basics but to provide useful hints for avoiding problems, and solving problems when they arise.
This second edition covers recent technical developments such as the introduction of HIPIMS and HIPIMS+, the increased use of chemical vapor precursors in reactive PVD processing, and the increased development of thick and nanolayered PVD coatings, particularly for tribological applications. The increasing importance of gas/vapor flow and control in reactive PVD and PECVD processes is reflected in the addition of a new Chapter on The Sub-Atmospheric Processing Environment.
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