HfO2-Based Ferroelectric Materials
Lingua: inglese
Editore: Wiley-VCH Sep 2026, 2026
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Neuware -Explores HfO2-based ferroelectrics for memory, sensing, and advanced electronic applicationsFerroelectric hafnium oxide (HfO2)-based materials have transformed the field of electronic materials and device design, offering pathways to overcome long-standing barriers in scalability, compatibility, and reliability. The emergence of robust ferroelectricity in doped HfO2 has revolutionized both research and industry perspectives, providing a viable solution where conventional ferroelectrics often fell short.With contributions from leading experts, HfO2-Based Ferroelectric Materials addresses the critical need for a consolidated reference on HfO2-based ferroelectrics, offering foundational knowledge as well as the latest insights into fabrication, material characterization, and device integration. The book opens with fundamentals of ferroelectricity and the mechanisms driving HfO2-based ferroelectric behavior, before progressing to detailed examinations of deposition techniques, superlattice structures, and reliability considerations. It further explores a broad spectrum of applications, including non-volatile memories, neuromorphic computing, compute-in-memory architectures, and negative capacitance transistors, alongside emerging roles in energy storage, microwave technologies, and piezoelectric systems. Special attention is given to persistent challenges such as the wake-up effect, fatigue, and imprint issues and the strategies developed to mitigate them.An authoritative and well-structured resource for advancing the frontiers of electronic materials and device technologies, HfO2-Based Ferroelectric Materials:\* Explains the origins of ferroelectricity in doped HfO2 and its unique material advantages\* Details deposition techniques and approaches to regulating ferroelectric behavior\* Examines device-level challenges, including wake-up effect, fatigue, and imprint reliability\* Highlights applications spanning non-volatile memories, neuromorphic computing, and energy-efficient devices\* Discusses advanced designs such as superlattice-like laminate structures and 3D ferroelectric memories\* Provides insight into the reliability of HfO2-based thin films, capacitors, and field-effect transistorsHfO2-Based Ferroelectric Materials: Fabrication, Characterization, and Device Applications is an essential resource for materials scientists, electronics engineers, semiconductor and solid-state physicists, and professionals in the semiconductor and sensor industries. It is also a valuable reference for graduate-level courses in electronic materials, semiconductor devices, and advanced nanotechnology within physics, materials science, and electrical engineering degree programs. 480 pp. Englisch. …
Codice articolo 9783527353187
- Titolo
- HfO2-Based Ferroelectric Materials
- Autore
- Xubing Lu
- Editore
- Wiley-VCH Sep 2026
- Anno di pubblicazione
- 2026
- Condizione
- Neu
- Rilegatura
- Buch
- Lingua
- inglese
- ISBN 10
- 3527353186
- ISBN 13
- 9783527353187
- Peso dell'articolo
- 1041 grammi
- Dimensioni
- 252x175x30 mm
Explores HfO2-based ferroelectrics for memory, sensing, and advanced electronic applications
Ferroelectric hafnium oxide (HfO2)-based materials have transformed the field of electronic materials and device design, offering pathways to overcome long-standing barriers in scalability, compatibility, and reliability. The emergence of robust ferroelectricity in doped HfO2 has revolutionized both research and industry perspectives, providing a viable solution where conventional ferroelectrics often fell short.
With contributions from leading experts, HfO2-Based Ferroelectric Materials addresses the critical need for a consolidated reference on HfO2-based ferroelectrics, offering foundational knowledge as well as the latest insights into fabrication, material characterization, and device integration. The book opens with fundamentals of ferroelectricity and the mechanisms driving HfO2-based ferroelectric behavior, before progressing to detailed examinations of deposition techniques, superlattice structures, and reliability considerations. It further explores a broad spectrum of applications, including non-volatile memories, neuromorphic computing, compute-in-memory architectures, and negative capacitance transistors, alongside emerging roles in energy storage, microwave technologies, and piezoelectric systems. Special attention is given to persistent challenges―such as the wake-up effect, fatigue, and imprint issues―and the strategies developed to mitigate them.
An authoritative and well-structured resource for advancing the frontiers of electronic materials and device technologies, HfO2-Based Ferroelectric Materials:
- Explains the origins of ferroelectricity in doped HfO2 and its unique material advantages
- Details deposition techniques and approaches to regulating ferroelectric behavior
- Examines device-level challenges, including wake-up effect, fatigue, and imprint reliability
- Highlights applications spanning non-volatile memories, neuromorphic computing, and energy-efficient devices
- Discusses advanced designs such as superlattice-like laminate structures and 3D ferroelectric memories
- Provides insight into the reliability of HfO2-based thin films, capacitors, and field-effect transistors
HfO2-Based Ferroelectric Materials: Fabrication, Characterization, and Device Applications is an essential resource for materials scientists, electronics engineers, semiconductor and solid-state physicists, and professionals in the semiconductor and sensor industries. It is also a valuable reference for graduate-level courses in electronic materials, semiconductor devices, and advanced nanotechnology within physics, materials science, and electrical engineering degree programs.
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