LASER AND PARTICLE-BEAM CHEMICAL PROCESSING FOR MICROELECTRONICS

DANIEL J. EHRLICH, MIT LINCOLN LABORATORIES, LEXINGTON, MASSACHUSETTSGREGG S. HIGASHI, AT&T BELL LABORATORIES, NEW JERSEYMODEST M. OPRYSKO, IBM T J WATSON RESEARCH CENTER, NEW YORK

ISBN 10: 0931837693 ISBN 13: 9780931837692

Editore: Cambridge University Press, 1988

Lingua: Inglese

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Titolo: LASER AND PARTICLE-BEAM CHEMICAL PROCESSING FOR MICROELECTRONICS
Editore: Cambridge University Press
Data di pubblicazione: 1988
Lingua: Inglese
ISBN 10: 0931837693
ISBN 13: 9780931837692
Rilegatura: Rilegato
Condizione: Brand New

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The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners.

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