Long-Term Reliability of Nanometer VLSI Systems

Lingua: inglese

Editore: Springer International Publishing, Springer International Publishing Sep 2020, 2020

3030261743 / 9783030261740

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This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -This book provides readers with a detailed reference regarding two of the most important long-term reliability and aging effects on nanometer integrated systems, electromigrations (EM) for interconnect and biased temperature instability (BTI) for CMOS devices. The authors discuss in detail recent developments in the modeling, analysis and optimization of the reliability effects from EM and BTI induced failures at the circuit, architecture and system levels of abstraction. Readers will benefit from a focus on topics such as recently developed, physics-based EM modeling, EM modeling for multi-segment wires, new EM-aware power grid analysis, and system level EM-induced reliability optimization and management techniques.Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 504 pp. Englisch.

Codice articolo 9783030261740

Titolo
Long-Term Reliability of Nanometer VLSI Systems
Autore
Sheldon Tan
Editore
Springer International Publishing, Springer International Publishing Sep 2020
Anno di pubblicazione
2020
Condizione
Neu
Rilegatura
Taschenbuch
Lingua
inglese
ISBN 10
3030261743
ISBN 13
9783030261740
Peso dell'articolo
756 grammi
Dimensioni
235x155x28 mm

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Emtmannsberg, BAYE, Germania

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