Microlithography: Science and Technology, Second Edition (Opitcal Science and Engineering)
Lingua: inglese
Editore: CRC Press, 2007
- Rilegato
- Nuovo

Da: SHIMEDIA, Brooklyn, NY, U.S.A.SHIMEDIA
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Codice articolo 0824790243
- Titolo
- Microlithography: Science and Technology, Second Edition (Opitcal Science and Engineering)
- Editore
- CRC Press
- Anno di pubblicazione
- 2007
- Condizione
- New
- Rilegatura
- Rilegato
- Lingua
- inglese
- ISBN 10
- 0824790243
- ISBN 13
- 9780824790240
- Edizione
- seconda edizione
- Serie
- Libro 26 di 98: Optical Science and Engineering
This new edition of the bestselling Microlithography: Science and Technology provides a balanced treatment of theoretical and operational considerations, from elementary concepts to advanced aspects of modern submicron microlithography. Each chapter reflects the current research and practices from the world's leading academic and industrial laboratories detailed by a stellar panel of international experts.
New in the Second EditionIn addition to updated information on existing material, this new edition features coverage of technologies developed over the last decade since the first edition appeared, including:
- Immersion Lithography
- 157nm Lithography
- Electron Projection Lithography (EPL)
- Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography
- Imprint Lithography
- Photoresists for 193nm and Immersion Lithography
- Scatterometry
Microlithography: Science and Technology, Second Edition authoritatively covers the physics, chemistry, optics, metrology tools and techniques, resist processing and materials, and fabrication methods involved in the latest generations of microlithography such as immersion lithography and extreme ultraviolet (EUV) lithography. It also looks ahead to the possible future systems and technologies that will bring the next generations to fruition.
Loaded with illustrations, equations, tables, and time-saving references to the most current literature, this book is the most comprehensive and reliable source for anyone, from student to seasoned professional, looking to achieve robust, accurate, and cost-effective microlithography processes and systems.
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Recensione
Praise for the First Edition
"...The editors have done an excellent job of gathering the knowledge of a number of world experts and blending it into a harmonious whole which will serve as a reference for some time to come, even in this fast-moving field."
―International Journal of Electrical Engineering Education
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