Novel Three-State Quantum Dot Gate Field Effect Transistor: Fabrication, Modeling and Applications
Lingua: inglese
Editore: SPRINGER NATURE Sep 2016, 2016
- Brossura
- Nuovo
Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, GermaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -The book presents the fabrication and circuit modeling of quantum dot gate field effect transistor (QDGFET) and quantum dot gate NMOS inverter (QDNMOS inverter). It also introduces the development of a circuit model of QDGFET based on Berkley Short Channel IGFET model (BSIM). Different ternary logic circuits based on QDGFET are also investigated in this book. Advanced circuit such as three-bit and six bit analog-to-digital converter (ADC) and digital-to-analog converter (DAC) were also simulated. 134 pp. Englisch.
Codice articolo 9788132234906
- Titolo
- Novel Three-State Quantum Dot Gate Field Effect Transistor: Fabrication, Modeling and Applications
- Autore
- Supriya Karmakar
- Editore
- SPRINGER NATURE Sep 2016
- Anno di pubblicazione
- 2016
- Condizione
- Neu
- Rilegatura
- Taschenbuch
- Lingua
- inglese
- ISBN 10
- 8132234901
- ISBN 13
- 9788132234906
- Peso dell'articolo
- 218 grammi
- Dimensioni
- 234x156x8 mm
The book presents the fabrication and circuit modeling of quantum dot gate field effect transistor (QDGFET) and quantum dot gate NMOS inverter (QDNMOS inverter). It also introduces the development of a circuit model of QDGFET based on Berkley Short Channel IGFET model (BSIM). Different ternary logic circuits based on QDGFET are also investigated in this book. Advanced circuit such as three-bit and six bit analog-to-digital converter (ADC) and digital-to-analog converter (DAC) were also simulated.
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Informazioni sull’autore
Dr. Supriya Karmakar is currently working as an Engineer in Intel Corporation, Hillsboro, Oregon, USA. Dr. Karmakar completed his PhD in Electrical Engineering from University of Connecticut in the year 2011. The specialization was "Novel Three State Quantum Dot Gate Field Effect Transistor: Fabrication, Modeling and Applications". He has five years experience in semiconductor device fabrication and circuit modeling in his PhD academic career in Department of Electrical and Computer Engineering, University of Connecticut. He has modified different photolithography processes and metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) techniques to fabricate various types of semiconductor devices like quantum dot gate field effect transistor (QDGFET), quantum dot gate non-volatile memory (QDNVM), quantum dot channel field effect transistors (QDCFET), Solar Cells etc. for different projects. He is also an expert in designing different types of masks for photolithography as well as E-Beam lithography. Dr. Karmakar has also published more than 30 papers in international peer-reviewed journals and conference proceedings.
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