The Optimum Interval for the Minimum Residual Method of Molecular Location (pp. 609-610) AND Crystallographic Data for some Cyclobutene Derivatives (p. 610). (Acta Crystallographica, Vol. 17, Part 5).

Stanley, E.; T. C. W. Mak and J. Trotter.

Editore: International Union of Crystallography / Munksgaard., 1964
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