The Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface 2

Lingua: inglese

Editore: Springer US, 2013

1489915907 / 9781489915900

Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, GermaniaAHA-BUCH GmbH

Venditore con 5 stelle

Venditore AbeBooks dal 14 agosto 2006

Visualizza gli articoli di questo venditore
Brossura

Condizione: Nuovo

EUR 223,11

EUR 63,90 spedizione 
Spedito da Germania a U.S.A.

Quantità: 1 disponibili

Aggiungi al carrello

Descrizione dell’articolo da parte del venditore

Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - The first international symposium on the subject 'The Physics and Chemistry of Si02 and the Si-Si02 Interface,' organized in association with the Electrochemical Society, Inc. , was held in Atlanta, Georgia on May 15- 20, 1988. This symposium contained sixty papers and was so successful that the sponsoring divisions decided to schedule it on a regular basis every four years. Thus, the second symposium on 'The Physics and Chemistry of Si02 and the Si02 Interface was held May 18-21, 1992 in St. Louis, Missouri, again sponsored by the Electronics and Dielectrics Science and Technology Divisions of The Electrochemical Society. This volume contains manuscripts of most of the fifty nine papers presented at the 1992 symposium, and is divided into eight chapters - approximating the organization of the symposium. Each chapter is preceded with an introduction by the session organizers. It is appropriate to provide a general assessment of the current status and understanding of the physics and chemistry of Si02 and the Si02 interface before proceeding with a brief overview of the individual chapters. Semiconductor devices have continued to scale down in both horizontal and vertical dimensions. This has resulted in thinner gate and field oxides as well as much closer spacing of individual device features. As a result, surface condition, native oxide composition, and cleaning and impurity effects now provide a much more significant contribution to the properties of oxides and their interfaces.

Codice articolo 9781489915900

Titolo
The Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface 2
Autore
C. R. Helms
Editore
Springer US
Anno di pubblicazione
2013
Condizione
Neu
Rilegatura
Taschenbuch
Lingua
inglese
ISBN 10
1489915907
ISBN 13
9781489915900
Peso dell'articolo
779 grammi
Dimensioni
235x155x28 mm

AHA-BUCH GmbH

Einbeck, Germania

Venditore con 5 stelle

Venditore AbeBooks dal 14 agosto 2006

Tariffe di spedizione da Germania a U.S.A.

ArticoloDa 30 a 40 giorni lavorativiDa 7 a 14 giorni lavorativi
Primo articoloEUR 63,90EUR 73,90
I tempi di consegna sono stabiliti dai venditori e variano in base al corriere e al paese. Gli ordini che devono attraversare una dogana possono subire ritardi e spetta agli acquirenti pagare eventuali tariffe o dazi associati. I venditori possono contattarti in merito ad addebiti aggiuntivi dovuti a eventuali maggiorazioni dei costi di spedizione dei tuoi articoli.

Metodi di pagamento

  • Visa
  • Mastercard
  • American Express
  • Carte Bleue
  • Apple Pay
  • Google Pay
  • Assegno
  • Bonifico bancario
  • PayPal

Descrizione dello Store

Das Unternehmen AHA-BUCH GmbH: Seit der Gründung von AHA-BUCH im Juli 2005 ist unser Hauptziel, zufriedenen Kunden so schnell und so preisgünstig wie möglich ihren Bücherwunsch zu erfüllen. Unsere Firma beschäftigt 16 Mitarbeiter, die nur ein Ziel kennen: den Kunden und seine Wünsche! Auf über 3700 m2 Fläche haben wir über 100.000 Bücher, Modernes Antiquariat und Spiele auf Lager.

Specializzazione

Kinderbücher & Kinderhör Casetten, German Books, Software, Natur & Tiere, Ratgeber, Sachbücher, Englische Bücher, Medizin & Gesundheit, Universität & Studium

Informazioni sull’azienda del venditore

AHA-BUCH GmbH

Garlebsen 48
Einbeck, Germania 37574