Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology)

Sugawara, M.

ISBN 10: 019856287X ISBN 13: 9780198562870

Editore: Oxford University Press, 1998

Lingua: Inglese

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Titolo

Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology)

Editore

Oxford University Press

Data di pubblicazione

1998

Lingua

Inglese

ISBN 10

019856287X

ISBN 13

9780198562870

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Riassunto

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

Informazioni sull?autore

Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

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