Updates in Advanced Lithography

Lingua: inglese

Editore: Intechopen Jul 2013, 2013

9535111752 / 9789535111757

Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, GermaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Advanced lithography grows up to several fields such as nano-lithography, micro electro-mechanical system (MEMS) and nano-phonics, etc. Nano-lithography reaches to 20 nm size in advanced electron device. Consequently, we have to study and develop true single nanometer size lithography. One of the solutions is to study a fusion of top down and bottom up technologies such as EB drawing and self-assembly with block copolymer. In MEMS and nano-photonics, 3 dimensional structures are needed to achieve some functions in the devices for the applications. Their formation are done by several methods such as colloid lithography, stereo-lithography, dry etching, sputtering, deposition, etc. This book covers a wide area regarding nano-lithography, nano structure and 3-dimensional structure, and introduces readers to the methods, methodology and its applications. 262 pp. Englisch.

Codice articolo 9789535111757

Titolo
Updates in Advanced Lithography
Autore
Sumio Hosaka
Editore
Intechopen Jul 2013
Anno di pubblicazione
2013
Condizione
Neu
Rilegatura
Buch
Lingua
inglese
ISBN 10
9535111752
ISBN 13
9789535111757
Peso dell'articolo
782 grammi
Dimensioni
266x185x23 mm

BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.

Bergisch Gladbach, Germania

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