hardcover. Condizione: Fine.
EUR 98,29
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. In English.
EUR 109,65
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
EUR 99,48
Quantità: 10 disponibili
Aggiungi al carrelloPF. Condizione: New.
EUR 89,51
Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: new.
EUR 124,05
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing AG, CH, 2016
ISBN 10: 3319356240 ISBN 13: 9783319356242
Da: Rarewaves USA, OSWEGO, IL, U.S.A.
EUR 134,91
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. Softcover reprint of the original 1st ed. 2015.
Editore: Sobunsha Publishing, 1977
Da: Sunny Day Bookstore, SINGAPORE, Singapore
EUR 52,05
Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Fine. Number of pages: 116 pages Number of books: 1 book.
Editore: Maruzen, 1975
Da: Sunny Day Bookstore, SINGAPORE, Singapore
EUR 52,05
Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Fine. The book is in fine condition.
EUR 135,38
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. In.
Condizione: New. pp. 116.
EUR 121,53
Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: new.
EUR 135,37
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
EUR 151,33
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
EUR 153,96
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing AG, CH, 2016
ISBN 10: 3319356240 ISBN 13: 9783319356242
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
EUR 161,48
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. Softcover reprint of the original 1st ed. 2015.
EUR 173,49
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing AG, CH, 2014
ISBN 10: 331910294X ISBN 13: 9783319102948
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
EUR 173,65
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. 2015 ed.
EUR 102,80
Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. Dry Etching Technology for Semiconductors | Kazuo Nojiri | Taschenbuch | Previously published in hardcover | xiii | Englisch | 2016 | Springer | EAN 9783319356242 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing AG, CH, 2016
ISBN 10: 3319356240 ISBN 13: 9783319356242
Da: Rarewaves USA United, OSWEGO, IL, U.S.A.
EUR 136,80
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. Softcover reprint of the original 1st ed. 2015.
Lingua: Inglese
Editore: Springer, Berlin, Springer International Publishing, Tuttle-Mori Agency, Springer, 2016
ISBN 10: 3319356240 ISBN 13: 9783319356242
Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Germania
EUR 122,09
Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book is a must-have reference to dry etching technology for semiconductors, which will enable engineers to develop new etching processes for further miniaturization and integration of semiconductor integrated circuits. The author describes the device manufacturing flow, and explains in which part of the flow dry etching is actually used. The content is designed as a practical guide for engineers working at chip makers, equipment suppliers and materials suppliers, and university students studying plasma, focusing on the topics they need most, such as detailed etching processes for each material (Si, SiO2, Metal etc) used in semiconductor devices, etching equipment used in manufacturing fabs, explanation of why a particular plasma source and gas chemistry are used for the etching of each material, and how to develop etching processes. The latest, key technologies are also described, such as 3D IC Etching, Dual Damascene Etching, Low-k Etching, Hi-k/Metal Gate Etching, FinFET Etching, Double Patterning etc.
Condizione: New.
EUR 183,58
Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing, Springer Nature Switzerland, 2014
ISBN 10: 331910294X ISBN 13: 9783319102948
Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Germania
EUR 160,49
Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloBuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book is a must-have reference to dry etching technology for semiconductors, which will enable engineers to develop new etching processes for further miniaturization and integration of semiconductor integrated circuits. The author describes the device manufacturing flow, and explains in which part of the flow dry etching is actually used. The content is designed as a practical guide for engineers working at chip makers, equipment suppliers and materials suppliers, and university students studying plasma, focusing on the topics they need most, such as detailed etching processes for each material (Si, SiO2, Metal etc) used in semiconductor devices, etching equipment used in manufacturing fabs, explanation of why a particular plasma source and gas chemistry are used for the etching of each material, and how to develop etching processes. The latest, key technologies are also described, such as 3D IC Etching, Dual Damascene Etching, Low-k Etching, Hi-k/Metal Gate Etching, FinFET Etching, Double Patterning etc.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing, Springer Nature Switzerland Nov 2014, 2014
ISBN 10: 331910294X ISBN 13: 9783319102948
Da: buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Germania
EUR 160,49
Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloBuch. Condizione: Neu. Neuware -This book is a must-have reference to dry etching technology for semiconductors, which will enable engineers to develop new etching processes for further miniaturization and integration of semiconductor integrated circuits.The author describes the device manufacturing flow, and explains in which part of the flow dry etching is actually used. The content is designed as a practical guide for engineers working at chip makers, equipment suppliers and materials suppliers, and university students studying plasma, focusing on the topics they need most, such as detailed etching processes for each material (Si, SiO2, Metal etc) used in semiconductor devices, etching equipment used in manufacturing fabs, explanation of why a particular plasma source and gas chemistry are used for the etching of each material, and how to develop etching processes.The latest, key technologies are also described, such as 3D IC Etching, Dual Damascene Etching, Low-k Etching, Hi-k/Metal Gate Etching, FinFET Etching, Double Patterning etc.Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 132 pp. Englisch.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing AG, CH, 2016
ISBN 10: 3319356240 ISBN 13: 9783319356242
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
EUR 151,47
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. Softcover reprint of the original 1st ed. 2015.
EUR 225,83
Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloHardcover. Condizione: Brand New. 2015 edition. 132 pages. 9.25x6.50x0.75 inches. In Stock.
Lingua: Inglese
Editore: Springer International Publishing AG, CH, 2014
ISBN 10: 331910294X ISBN 13: 9783319102948
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
EUR 162,96
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. 2015 ed.
EUR 233,32
Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloHardcover. Condizione: Like New. Like New. book.
EUR 242,79
Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.