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nicholas hitchon (11 risultati)
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Paese del venditore
Valutazione venditore
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Semiconductor Devices: A Simulation Approach
Da: Cloud Runner Books, Minneapolis, MN, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Hardcover. Condizione: Fine. Condizione sovraccoperta: None. Semiconductor Devices: A Simulation Approach by Kevin M. Kramer; W. Nicholas G. Hitchon. Prentice Hall, 1997. 707pp. Language: English. Note: Includes unopened media disc.
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Semiconductor Devices: A Simulation Approach
Da: Goodwill of Silicon Valley, SAN JOSE, CA, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: good. Supports Goodwill of Silicon Valley job training programs. The cover and pages are in Good condition! Any other included accessories are also in Good condition showing use. Use can include some highlighting and writing, page and cover creases as well as other types visible wear.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication. With figures
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, Cambridge, 1999
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
EUR 36,00
Spedizione EUR 72,50
Spedito da Austria a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloOlnbd.m.Oumschl. Condizione: Sehr gut. Condizione sovraccoperta: Gut. 4 Olnbd.m.Oumschl. en Elektronik, Naturwissenschaften, Physik (Cambridge Studies in Semiconductor Physics and Microelectronic Engineering 8); IX pp., 221 pp. Schutzumschlag: Gut.
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EUR 50,56
Spedizione EUR 105,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Gut. Zustand: Gut | Seiten: 704 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | Keine Beschreibung verfügbar.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 1999
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 165,51
Spedizione EUR 2,29
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 1999
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 166,60
Spedizione EUR 2,29
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 1999
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 158,25
Spedizione EUR 17,36
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 1999
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 171,85
Spedizione EUR 17,36
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
EUR 123,31
Spedizione EUR 105,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Sehr gut. Zustand: Sehr gut | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | An up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 1999
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
EUR 189,31
Spedizione EUR 63,20
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloBuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Plasma processing is a central technique in the fabrication of semiconductor devices. This self-contained book provides an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. It presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modelled. The author begins with an overview of plasma reactors, and discusses the various models for understanding plasma processes. He then covers plasma chemistry, and describes in detail the modelling of complex plasma systems, with reference to experimental results. The book closes with a useful glossary of technical terms. No prior knowledge of plasma physics is assumed in the book. It contains many exercises and will serve as an ideal introduction to plasma processing and technology for graduate students of electrical engineering and materials science. It will also be a useful reference for practising engineers in the semiconductor industry.
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Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
Lingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 0521591759 ISBN 13: 9780521591751
EUR 173,40
Spedizione EUR 70,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloBuch. Condizione: Neu. Plasma Processes for Semiconductor Fabrication | W. Nicholas G. Hitchon | Buch | Englisch | 2014 | Cambridge University Press | EAN 9780521591751 | Verantwortliche Person für die EU: Libri GmbH, Europaallee 1, 36244 Bad Hersfeld, gpsr[at]libri[dot]de | Anbieter: preigu Print on Demand.
