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9780128124543 - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications (16 risultati)
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 192,09
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 398.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 216,76
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 212,30
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 223,79
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EUR 167,95
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Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - fest (Hardcover) | Englisch | 2019 | Elsevier | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 231,19
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 257,34
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 257,21
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 279,57
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Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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EUR 237,45
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Aggiungi al carrelloCondizione: New. Includes a comprehensive description of the HiPIMS process from fundamental physics to applications Provides a distinctive link between the process plasma and thin film communities Discusses the industrialization of HiPIMS and its.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 263,63
Spedizione EUR 74,89
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Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Valutazione del venditore 3 su 5 stelle
EUR 163,31
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 190,19
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Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 184,00
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Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
EUR 202,34
Spedizione EUR 63,15
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
