9781118062777 - atomic layer deposition: principles, characteristics, and nanotechnology applicatons di kaariainen, tommi; cameron, david; kaariainen, marja-leena; sherman, arthur (13 risultati)
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Hardcover. Condizione: Fair. Unbekannte Unterschrift / Widmung / Aufkleber; Anmerkungen / bekritzelt / Stempel; Abnutzung / Risse - leicht. Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking… monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Atomic Layer Deposition : Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons
Kaariainen, Tommi; Cameron, David; Kaariainen, Marja-leena; Sherman, Arthur
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Kaariainen, Tommi; Cameron, David; Kaariainen, Marja-leena; Sherman, Arthur
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Atomic Layer Deposition : Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applicatons
Kaariainen, Tommi; Cameron, David; Kaariainen, Marja-leena; Sherman, Arthur
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Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Kääriäinen, Tommi; Cameron, David; Kääriäinen, Marja-Leena; Sherman, Arthur
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Kaariainen, Tommi; Cameron, David; Kaariainen, Marja-leena; Sherman, Arthur
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Condizione: New. Tommi Kaeaeriaeinen is a researcher at the Advanced Surface Technology Research Laboratory (ASTRaL) in Lappeenranta University of Technology (LUT), Finland. He has over nine years of experience in thin film deposition and analytical techniques. He has especial.
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