9781461404446 - predictive technology model for robust nanoelectronic design di cao, yu (16 risultati)
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Buch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Predictive Technology Model for Robust Nanoelectronic Design explains many of the technical mysteries behind the Predictive Technology Model (PTM) that has been adopted worldwide in explorative design research. Through physical derivation and technology…extrapolation, PTM is the de-factor device model used in electronic design. This work explains the systematic model development and provides a guide to robust design practice in the presence of variability and reliability issues. Having interacted with multiple leading semiconductor companies and university research teams, the author brings a state-of-the-art perspective on technology scaling to this work and shares insights gained in the practices of device modeling.
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Buch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Predictive Technology Model for Robust Nanoelectronic Design explains many of the technical mysteries behind the Predictive Technology Model (PTM) that has been adopted worldwide in explorative design research. Through physical derivation… and technology extrapolation, PTM is the de-factor device model used in electronic design. This work explains the systematic model development and provides a guide to robust design practice in the presence of variability and reliability issues. Having interacted with multiple leading semiconductor companies and university research teams, the author brings a state-of-the-art perspective on technology scaling to this work and shares insights gained in the practices of device modeling. 173 pp. Englisch.
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Condizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Provides a systematic treatment of predictive modeling and design prototyping, from the fundamental concept to practical benchmarksIncludes a complete and quantitative vision on the opportunities and limits of techno…logy scaling toward the 10nm regime.
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