Materials, Processes, Integration and Reliability in Advanced Interconnects for Micro- and Nanoelectronics: Symposium Held April 10-12, 2007, San Francisco, California, U.S.A.: Volume 990

Edited by Qinghuang Lin , E. Todd Ryan , Wen-li Wu , Do Yeung Yoon

ISBN 10: 1107408717 ISBN 13: 9781107408715
Editore: Cambridge University Press, 2014
Lingua: Inglese
Condizione: Nuovo Brossura

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