Optical Imaging in Projection Microlithography

Lingua: inglese

Editore: SPIE Press, US, 2005

0819458295 / 9780819458292

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Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.

Codice articolo LU-9780819458292

Titolo
Optical Imaging in Projection Microlithography
Autore
Alfred K. Wong
Editore
SPIE Press, US
Anno di pubblicazione
2005
Condizione
New
Rilegatura
Paperback
Lingua
inglese
ISBN 10
0819458295
ISBN 13
9780819458292
Edizione
illustrated Edition.
Peso dell'articolo
585 grammi

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