Claudine gorse (10 risultati)
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Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics: Kinetics (Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, 85)
Capitelli, Mario; Celiberto, Roberto; Colonna, Gianpiero; Esposito, Fabrizio; Gorse, Claudine; Hassouni, Khaled; Laricchiuta, Annarita; Longo, Savino
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2015
Serie: Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, Libro 80 di 120. Libro 80 di 120 - Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics
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Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics: Kinetics (Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, 85)
Capitelli, Mario; Celiberto, Roberto; Colonna, Gianpiero; Esposito, Fabrizio; Gorse, Claudine; Hassouni, Khaled; Laricchiuta, Annarita; Longo, Savino
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2016
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Buch. Condizione: Neu. Neuware - Plasmas in Nature, Laboratory, and Technology (A. Ignatov, A.A. Rukhadze). Laser Diagnostics of Plasmas (L. Pyatnitsky). Probe Diagnostics of Plasmas (G. Dilecce). Theory, Properties, and Applications of Nonequilibrium Plasmas Created by External Energy Sources (E.E. Son). Nonequilibrium Plasma M…odeling (M. Capitelli et al.). Gas Discharge Lamps (M. Koedam). Plasma Etching Processes and Diagnostics (R. d'Agostino, F. Fracassi). Plasma Deposition (A. Koch). Correlations between Active Plasma Species and Steel Surface Nitriding in Microwave Postdischarge Reactors (A. Ricard et al.). Simultaneous Removal of NOx SOx and Soot in Diesel Engine Exhaust by Plasma/Oil Dynamics Means (K. Fujii). DeNOx DeSOx Process by Gas Energization (L. Civitano, E. Sani). Microwave Excitation Technology (P. Leprince, J. Marec). Negative Ion Source Technology (H.J. Hopman, R.M.A. Heeren). Quasistationary Optical Discharges on Solid Targets (V.B. Fedorov). Index.
Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics: Kinetics (Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, 85)
Capitelli, Mario; Celiberto, Roberto; Colonna, Gianpiero; Esposito, Fabrizio; Gorse, Claudine; Hassouni, Khaled; Laricchiuta, Annarita; Longo, Savino
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Editore: Springer, 2016
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Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics. Kinetics (Publisher series: Springer Series on Atomic Optical and Plasma Physics.)
Capitelli, Mario (With Roberto Celiberto, Gianpiero Colonna, Fabrizio Esposito, Claudine Gorse, Khaled Hassouni, Annarita Laricchiuta & Savino Longo.)
Editore: Springer 978-1-4419-8184-4, New York
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[978-1-4419-8184-4] 2016. (Hardcover) Fine, no dust jacket. 318pp. Illustrations, tables, formulas, references, index. Publisher series: Springer Series on Atomic Optical and Plasma Physics 85. (Science, Physics, Science).
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Editore: Springer New York, 2016
Serie: Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, Libro 80 di 120. Libro 80 di 120 - Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics
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Lingua: Inglese
Editore: Springer New York, 2015
Serie: Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, Libro 80 di 120. Libro 80 di 120 - Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics
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Gebunden. Condizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Presents and discusses elected examples in different applied fields, such as microelectronics, fusion, and aerospaceProvides detailed descriptions of the state-to-state kinetic approach for benchmark plasma… systems through worked examplesAp.
Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics: Kinetics (Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, 85)
Capitelli, Mario; Celiberto, Roberto; Colonna, Gianpiero; Esposito, Fabrizio; Gorse, Claudine; Hassouni, Khaled; Laricchiuta, Annarita; Longo, Savino
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Editore: Springer, 2016
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Fundamental Aspects of Plasma Chemical Physics: Kinetics (Springer Series on Atomic, Optical, and Plasma Physics, 85)
Capitelli, Mario; Celiberto, Roberto; Colonna, Gianpiero; Esposito, Fabrizio; Gorse, Claudine; Hassouni, Khaled; Laricchiuta, Annarita; Longo, Savino
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