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Bran Museum Art and History
Editore: Profile Publishing
Da: Wonder Book, Frederick, MD, U.S.A.
Membro dell'associazione: ABAA ILAB
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: Very Good. Very Good condition. (Romania, castles, guidebooks).
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EUR 24,73
Spedizione EUR 12,99
Spedito da Spagna a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Bueno. : Este libro explora la figura de Drácula, analizando si es un mito o una realidad. A través de sus páginas, el autor Daniel Tiberiu Apostol examina la leyenda de Drácula, posiblemente contrastándola con hechos históricos o culturales. El libro, publicado en 2005, ofrece una perspectiva en inglés sobre este personaje icónico. EAN: 9789738642348 Tipo: Libros Categoría: Historia Título: Dracula. Myth or Reality Autor: Daniel Tiberiu Apostol Editorial: ohne Verlagsangabe Idioma: en Páginas: 48 Formato: tapa blanda.
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DRACULA. Myth or Reality
Editore: ohne Verlagsangabe, 2005
ISBN 10: 9738642345 ISBN 13: 9789738642348
EUR 22,00
Spedizione EUR 22,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: fine. Taschenbuch. Zustandsangabe altersgemäß. Sofortversand aus Deutschland. Artikel wiegt maximal 500g. 48 Seiten. englische Sprache.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 189,73
Spedizione EUR 7,49
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. pp. 398.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 398.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 216,63
Spedizione EUR 2,27
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 209,98
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. pp. 398.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 216,18
Spedizione EUR 17,29
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 225,53
Spedizione EUR 13,81
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. In.
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EUR 167,95
Spedizione EUR 70,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - flex.(Paperback) | Englisch | 2019 | Elsevier | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 256,78
Spedizione EUR 2,27
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 257,23
Spedizione EUR 17,29
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 309,78
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 293,22
Spedizione EUR 74,93
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 163,31
Spedizione EUR 6,80
Spedito da Italia a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: new. Questo è un articolo print on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 190,28
Spedizione EUR 14,41
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 184,00
Spedizione EUR 23,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology|Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
EUR 179,59
Spedizione EUR 48,99
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of bo.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
EUR 202,34
Spedizione EUR 63,15
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
