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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 150,31
Spedizione EUR 13,81
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 188,91
Spedizione EUR 7,49
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. pp. 398.
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EUR 99,21
Spedizione EUR 105,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Hervorragend. Zustand: Hervorragend | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | This book introduces readers to the physics governing electron emission under high voltages and temperatures, and highlights recent modeling and numerical developments for describing these phenomena. It begins with a brief introduction, presenting several applications that have driven electron emission research in the last few decades. The authors summarize the most relevant theories including the physics of thermo-field electron emission and the main characteristic parameters. Based on these theories, they subsequently describe numerical multi-physics models and discuss the main findings on the effect of space charges, emitter geometry, pulse duration, etc.Beyond the well-known photoelectric effect, the book reviews recent advanced theories on photon-metal interaction. Distinct phenomena occur when picosecond and femtosecond lasers are used to irradiate a surface. Their consequences on metal electron dynamics and heating are presented and discussed, leading to various emission regimes ¿ in and out of equilibrium. In closing, the book reviews the effects of electron emission on high-voltage operation in vacuum, especially breakdown and conditioning, as the most common examples. The book offers a uniquely valuable resource for graduate and PhD students whose work involves electron emission, high-voltage holding, laser irradiation of surfaces, vacuum or discharge breakdown, but also for academic researchers and professionals in the field of accelerators and solid state physics with an interest in this highly topical area.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 398.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. 1st ed. 2022 edition NO-PA16APR2015-KAP.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 215,96
Spedizione EUR 2,27
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 212,30
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 222,26
Spedizione EUR 17,29
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 232,54
Spedizione EUR 11,52
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 230 pages. 9.25x6.10x0.49 inches. In Stock.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 234,53
Spedizione EUR 11,52
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloHardcover. Condizione: Brand New. 230 pages. 9.25x6.10x0.56 inches. In Stock.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 229,47
Spedizione EUR 13,81
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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EUR 167,95
Spedizione EUR 70,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. High Power Impulse Magnetron Sputtering | Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications | Daniel Lundin (u. a.) | Taschenbuch | Einband - flex.(Paperback) | Englisch | 2019 | Elsevier | EAN 9780128124543 | Verantwortliche Person für die EU: preigu GmbH & Co. KG, Lengericher Landstr. 19, 49078 Osnabrück, mail[at]preigu[dot]de | Anbieter: preigu.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 254,65
Spedizione EUR 2,27
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 257,18
Spedizione EUR 17,29
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 277,53
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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EUR 246,45
Spedizione EUR 48,99
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. Includes a comprehensive description of the HiPIMS process from fundamental physics to applications Provides a distinctive link between the process plasma and thin film communities Discusses the industrialization of HiPIMS and its.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science Publishing Co Inc, US, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 263,68
Spedizione EUR 74,91
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 154,30
Spedizione EUR 11,52
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloHardcover. Condizione: Brand New. 230 pages. 9.25x6.10x0.56 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 163,31
Spedizione EUR 6,80
Spedito da Italia a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 197,99
Spedizione EUR 7,49
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 199,18
Spedizione EUR 7,49
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
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High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 190,22
Spedizione EUR 14,41
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 384 pages. 9.25x6.25x1.00 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 184,00
Spedizione EUR 23,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 201,67
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
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Theoretical Treatment of Electron Emission and Related Phenomena
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 202,62
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. PRINT ON DEMAND.
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High Power Impulse Magnetron Sputtering : Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019
ISBN 10: 0128124547 ISBN 13: 9780128124543
EUR 202,34
Spedizione EUR 63,15
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution.
