Deka manoj kumar (39 risultati)
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Editore: VDM Verlag Dr. Mueller Aktiengesellschaft & Co. KG, 2013
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Ion acoustic solitary wave in an ion beam driven dusty plasma: From Theory to Experiment
Deka, Manoj Kumar; Adhikary, Nirab Chandra; Bailung, Heremba
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Ion Acoustic Solitary Wave In An Ion Beam Driven Dusty Plasma: From Theory To Experiment
Deka, Manoj Kumar; Adhikary, Nirab Chandra; Bailung, Heremba; Deka, Manoj Kumar; Adhikary, Nirab Chandra; Bailung, Heremba
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Ion acoustic solitary wave in an ion beam driven dusty plasma: From Theory to Experiment
Deka, Manoj Kumar, Adhikary, Nirab Chandra, Bailung, Heremba
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Demystifying the Role of Natural Language Processing (Nlp) in Mental Health
Mishra, Ashutosh (EDT); Yadav, Satya Prakash (EDT); Kumar, Manoj (EDT); Biju, Soly Mathew (EDT); Deka, Ganesh Chandra (EDT)
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Demystifying the Role of Natural Language Processing (Nlp) in Mental Health
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Demystifying the Role of Natural Language Processing (Nlp) in Mental Health
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Demystifying the Role of Natural Language Processing (Nlp) in Mental Health
Mishra, Ashutosh (EDT); Yadav, Satya Prakash (EDT); Kumar, Manoj (EDT); Biju, Soly Mathew (EDT); Deka, Ganesh Chandra (EDT)
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Mishra, Ashutosh (EDT); Yadav, Satya Prakash (EDT); Kumar, Manoj (EDT); Biju, Soly Mathew (EDT); Deka, Ganesh Chandra (EDT)
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Taschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Electronegative plasmas produced by attaching mobile low energy electrons to create heavy negative ions are very attractive for both fundamental research and plasma processing applications. Electronegative gas plasmas are widely used in microelectronics manufacturing for etching and deposition of thin films. For example, plasmas in gases containing Cl2 or SF6 are used for silicon etching, fluorocarbon plasmas are indispensable for silicon dioxide etching, and oxygen plasmas are used for ashing of photoresist and other polymers. Electronegative plasmas produced in argon and sulfur hexafluoride (SF6) are used to etch silicon, silicon nitride, silicon carbide and titanium carbide with high etch rates and without film residues. Highly electronegative discharges, also called ion-ion plasmas are seen as a promising solution for electric propulsion and neutral beam development. Ion-ion plasmas find application in charge-free semiconductor manufacturing, negative ion sources, and the D-layer of the upper atmosphere. .Here based on CUSP type magntic filter, a source of an almost electron free plasma along with all possible mechanism of negative ion production is discussed. 84 pp. Englisch. …
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Taschenbuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Electronegative plasmas produced by attaching mobile low energy electrons to create heavy negative ions are very attractive for both fundamental research and plasma processing applications. Electronegative gas plasmas are widely used in microelectronics manufacturing for etching and deposition of thin films. For example, plasmas in gases containing Cl2 or SF6 are used for silicon etching, fluorocarbon plasmas are indispensable for silicon dioxide etching, and oxygen plasmas are used for ashing of photoresist and other polymers. Electronegative plasmas produced in argon and sulfur hexafluoride (SF6) are used to etch silicon, silicon nitride, silicon carbide and titanium carbide with high etch rates and without film residues. Highly electronegative discharges, also called ion-ion plasmas are seen as a promising solution for electric propulsion and neutral beam development. Ion-ion plasmas find application in charge-free semiconductor manufacturing, negative ion sources, and the D-layer of the upper atmosphere. .Here based on CUSP type magntic filter, a source of an almost electron free plasma along with all possible mechanism of negative ion production is discussed.…
