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hitchman michael (38 risultati)
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Measurement of dissolved oxygen (Chemical analysis)
Da: Booksavers of Virginia, Harrisonburg, VA, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
hardcover. Condizione: Good. Condizione sovraccoperta: Good. Binding tight, pages unmarked except previous owner's name on front endsheet. Cover is very good. The DJ is good with slight bumping along the edges. Your purchase benefits the world-wide relief efforts of Mennonite Central Committee.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New. This is a Brand-new US Edition. This Item may be shipped from US or any other country as we have multiple locations worldwide.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Basi6 International, Irving, TX, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: Brand New. New. US edition. Expediting shipping for all USA and Europe orders excluding PO Box. Excellent Customer Service.
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Measurement of Dissolved Oxygen
Da: Rob the Book Man, Vancouver, WA, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Hardcover. Condizione: Very Good. Condizione sovraccoperta: Good. Hardback in very good + condition with good + condition dust jacket.
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Hardcover. Condizione: new. New Copy. Customer Service Guaranteed.
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Geometry with an Introduction to Cosmic Topology
Lingua: Inglese
Editore: CreateSpace Independent Publishing Platform, 2018
ISBN 10: 1717134815 ISBN 13: 9781717134813
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 12,11
Spedizione EUR 11,55
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 275 pages. 9.00x6.00x0.62 inches. This item is printed on demand.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Condizione: New. Brand New Original US Edition. Customer service! Satisfaction Guaranteed.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Condizione: New. Brand New Original US Edition. Customer service! Satisfaction Guaranteed.
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Chemical Vapour Deposition
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New. This is a Brand-new US Edition. This Item may be shipped from US or any other country as we have multiple locations worldwide.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New. This is a Brand-new US Edition. This Item may be shipped from US or any other country as we have multiple locations worldwide.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Basi6 International, Irving, TX, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: Brand New. New. US edition. Expediting shipping for all USA and Europe orders excluding PO Box. Excellent Customer Service.
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CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Basi6 International, Irving, TX, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: Brand New. New. US edition. Expediting shipping for all USA and Europe orders excluding PO Box. Excellent Customer Service.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 166,49
Spedizione EUR 2,27
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 153,46
Spedizione EUR 17,32
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Ligand Field Theory and Its Applications (eng)
Da: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Valutazione del venditore 3 su 5 stelle
EUR 154,44
Spedizione EUR 13,50
Spedito da Italia a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: new.
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Ligand Field Theory and Its Applications (Special Topics in Inorganic Chemistry)
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 166,51
Spedizione EUR 13,83
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. In.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Lingua: Inglese
Editore: John Wiley and Sons Inc, US, 2000
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 209,64
Spedizione gratuita
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. Die langerwartete aktualisierte Neuauflage des bewährten Klassikers! Seit dem Erscheinen der ersten Auflage ist das Gebiet der Ligandenfeldtheorie förmlich explodiert; inzwischen weiß man auch, wie, warum und unter welchen Voraussetzungen sich die theoretischen Erkenntnisse auf die Praxis übertragen lassen. Dieser einzige moderne Abriß der Ligandenfeldtheorie erläutert Methoden zur Erfassung der Bindungssituation in Übergangsmetallkomplexen sowie Anwendungen zur Interpretation struktureller, spektraler und magnetischer Eigenschaften. (01/00).
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Ligand Field Theory and Its Applications
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 204,37
Spedizione EUR 7,51
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. pp. xviii + 354 Illus.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. xviii + 354 1st Edition.
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Ligand Field Theory and Its Applications (Special Topics in Inorganic Chemistry)
Lingua: Inglese
Editore: Vch Verlagsgesellschaft Mbh, 1999
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 237,24
Spedizione EUR 14,44
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloHardcover. Condizione: Brand New. 1st edition. 354 pages. 9.75x6.75x1.00 inches. In Stock.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New.
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Chemical Vapour Deposition
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: PBShop.store US, Wood Dale, IL, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
HRD. Condizione: New. New Book. Shipped from UK. Established seller since 2000.
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Chemical Vapour Deposition
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 253,73
Spedizione EUR 9,80
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 6 disponibili
Aggiungi al carrelloHRD. Condizione: New. New Book. Shipped from UK. Established seller since 2000.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 253,72
Spedizione EUR 17,32
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 11 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Ligand Field Theory and Its Applications
Lingua: Inglese
Editore: John Wiley and Sons Inc, US, 2000
ISBN 10: 0471317764 ISBN 13: 9780471317760
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 198,60
Spedizione EUR 75,06
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. Die langerwartete aktualisierte Neuauflage des bewährten Klassikers! Seit dem Erscheinen der ersten Auflage ist das Gebiet der Ligandenfeldtheorie förmlich explodiert; inzwischen weiß man auch, wie, warum und unter welchen Voraussetzungen sich die theoretischen Erkenntnisse auf die Praxis übertragen lassen. Dieser einzige moderne Abriß der Ligandenfeldtheorie erläutert Methoden zur Erfassung der Bindungssituation in Übergangsmetallkomplexen sowie Anwendungen zur Interpretation struktureller, spektraler und magnetischer Eigenschaften. (01/00).
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Chemical Vapour Deposition: Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 279,61
Spedizione EUR 13,83
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 9 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. In.
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Chemical Vapour Deposition : Precursors, Processes and Applications
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 276,60
Spedizione EUR 17,32
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 11 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Chemical Vapour Deposition
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, GB, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 308,11
Spedizione gratuita
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. Chemical Vapour Deposition (CVD) involves the deposition of thin solid films from chemical precursors in the vapour phase, and encompasses a variety of deposition techniques, including a range of thermal processes, plasma enhanced CVD (PECVD), photon- initiated CVD, and atomic layer deposition (ALD). The development of CVD technology owes a great deal to collaboration between different scientific disciplines such as chemistry, physics, materials science, engineering and microelectronics, and the publication of this book will promote and stimulate continued dialogue between scientists from these different research areas. The book is one of the most comprehensive overviews ever written on the key aspects of chemical vapour deposition processes and it is more comprehensive, technically detailed and up-to-date than other books on CVD. The contributing authors are all practising CVD technologists and are leading international experts in the field of CVD. It presents a logical and progressive overview of the various aspects of CVD processes. Basic concepts, such as the various types of CVD processes, the design of CVD reactors, reaction modelling and CVD precursor chemistry are covered in the first few chapters. Then follows a detailed description of the use of a variety CVD techniques to deposit a wide range of materials, including semiconductors, metals, metal oxides and nitrides, protective coatings and functional coatings on glass. Finally and uniquely, for a technical volume, industrial and commercial aspects of CVD are also discussed together with possible future trends, which is an unusual, but very important aspect of the book. The book has been written with CVD practitioners in mind, such as the chemist who wishes to learn more about CVD processes, or the CVD technologist who wishes to gain an increased knowledge of precursor chemistry. The volume will prove particularly useful to those who have recently entered the field, and it will also make a valuable contribution to chemistry and materials science lecture courses at undergraduate and postgraduate level.
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Chemical Vapour Deposition (Hardcover)
Lingua: Inglese
Editore: Royal Society of Chemistry, Cambridge, 2008
ISBN 10: 0854044655 ISBN 13: 9780854044658
Da: Grand Eagle Retail, Bensenville, IL, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Hardcover. Condizione: new. Hardcover. Chemical Vapour Deposition (CVD) involves the deposition of thin solid films from chemical precursors in the vapour phase, and encompasses a variety of deposition techniques, including a range of thermal processes, plasma enhanced CVD (PECVD), photon- initiated CVD, and atomic layer deposition (ALD). The development of CVD technology owes a great deal to collaboration between different scientific disciplines such as chemistry, physics, materials science, engineering and microelectronics, and the publication of this book will promote and stimulate continued dialogue between scientists from these different research areas. The book is one of the most comprehensive overviews ever written on the key aspects of chemical vapour deposition processes and it is more comprehensive, technically detailed and up-to-date than other books on CVD. The contributing authors are all practising CVD technologists and are leading international experts in the field of CVD. It presents a logical and progressive overview of the various aspects of CVD processes. Basic concepts, such as the various types of CVD processes, the design of CVD reactors, reaction modelling and CVD precursor chemistry are covered in the first few chapters. Then follows a detailed description of the use of a variety CVD techniques to deposit a wide range of materials, including semiconductors, metals, metal oxides and nitrides, protective coatings and functional coatings on glass. Finally and uniquely, for a technical volume, industrial and commercial aspects of CVD are also discussed together with possible future trends, which is an unusual, but very important aspect of the book. The book has been written with CVD practitioners in mind, such as the chemist who wishes to learn more about CVD processes, or the CVD technologist who wishes to gain an increased knowledge of precursor chemistry. The volume will prove particularly useful to those who have recently entered the field, and it will also make a valuable contribution to chemistry and materials science lecture courses at undergraduate and postgraduate level. A comprehensive overview on the key aspects of chemical vapour deposition processes written by practising CVD technologists who are also leading international experts. Shipping may be from multiple locations in the US or from the UK, depending on stock availability.
