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Plasma and Low-k Dielectric Materials
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 78,15
Spedizione EUR 2,31
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 82,15
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 76,74
Spedizione EUR 14,06
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Da: Chiron Media, Wallingford, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 73,27
Spedizione EUR 18,18
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 10 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New.
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Plasma and Low-k Dielectric Materials
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 76,27
Spedizione EUR 17,61
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Lingua: Inglese
Editore: VDM Verlag Dr. Mueller Aktiengesellschaft & Co. KG, 2009
ISBN 10: 3639153014 ISBN 13: 9783639153019
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 216.
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EUR 66,50
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Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. Plasma and Low- Dielectric Materials | Interaction and Application in Advanced Semiconductor Technology | Junjing Bao | Taschenbuch | Englisch | VDM Verlag Dr. Müller | EAN 9783639153019 | Verantwortliche Person für die EU: VDM Verlag Dr. Müller, Brivibas Gatve 197, 1039 RIGA, LETTLAND, customerservice[at]vdm-vsg[dot]de | Anbieter: preigu.
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 76,78
Spedizione EUR 76,29
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloBook. Condizione: New.
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Plasma and Low-k Dielectric Materials
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 169,24
Spedizione EUR 17,61
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Plasma and Low- Dielectric Materials
Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 159,58
Spedizione EUR 29,34
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
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Plasma and Low-k Dielectric Materials
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 192,20
Spedizione EUR 2,31
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Plasma and Low Dielectric Materials
Da: PBShop.store US, Wood Dale, IL, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 80,54
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Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPAP. Condizione: New. New Book. Shipped from UK. THIS BOOK IS PRINTED ON DEMAND. Established seller since 2000.
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Plasma and Low Dielectric Materials
Da: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 77,77
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPAP. Condizione: New. New Book. Delivered from our UK warehouse in 4 to 14 business days. THIS BOOK IS PRINTED ON DEMAND. Established seller since 2000.
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EUR 60,51
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Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloKartoniert / Broschiert. Condizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Autor/Autorin: Bao JunjingJunjing (Jerry) Bao is an advisory engineer at IBM Systems & nTechnology Group in New York. He was a research assistant at the nInterconnect & Pckaging Group at the University of Texas at nAustin and obtained his PhD in ph.
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Lingua: Inglese
Editore: VDM Verlag Dr. Mueller Aktiengesellschaft & Co. KG, 2009
ISBN 10: 3639153014 ISBN 13: 9783639153019
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 132,19
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. Print on Demand pp. 216 2:B&W 6 x 9 in or 229 x 152 mm Perfect Bound on Creme w/Gloss Lam.
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EUR 79,95
Spedizione EUR 61,52
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - With the scaling of devices, integration of porous ultra low-k materials into Cu interconnect becomes imperative. Low-k dielectric materials consist of methyl groups and pores incorporated into a silicon dioxide backbone structure to reduce the dielectric constant. Plasma is widely used in semiconductor industry for deposition, etching, stripping etc. This book explores the interaction between plasma and low-k dielectric materials and their application in advanced semiconductor processes. It mainly consists of two parts. First, plasma assists the atomic layer deposition of Ta based Cu barriers. Experiments, coupled with Monte Carlo simulation proved that plasma alters low-k surfaces and generates favorable surface function groups for subsequent Ta/TaN deposition. Second, plasma degrades properties of low-k materials through methyl depletion. Mechanism of plasma damage to blanket and pattern low-k films was discussed. Then techniques for low-k repair, such as methane beam and silylation, were demonstrated.
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Plasma and Low-? Dielectric Materials
Lingua: Inglese
Editore: VDM Verlag Dr. Mueller Aktiengesellschaft & Co. KG, 2009
ISBN 10: 3639153014 ISBN 13: 9783639153019
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 132,38
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. PRINT ON DEMAND pp. 216.
