Posadas agham b (20 risultati)
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.Romtrade Corp.
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Editore: Springer, 2016
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Condizione: Muy bueno. : Este libro trata sobre la integración de óxidos funcionales con semiconductores. Cubre temas como los semiconductores de óxido metálico, la epitaxia y el recubrimiento de óxido. Publicado por Springer New York en 2016, el libro tiene 278 páginas y está escrito en inglés. EAN: 9781493941698 Tipo: Libros C…ategoría: Tecnología|Ciencias Título: Integration of Functional Oxides with Semiconductors Autor: Alexander A. Demkov| Agham B. Posadas Editorial: Springer New York Idioma: en Páginas: 278.
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Editore: Springer, 2014
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Da: Basi6 International, Irving, TX, U.S.A.Basi6 International
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Editore: Springer, 2014
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Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno UnitoMispah books
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Editore: Springer, 2014
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Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.GreatBookPrices
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Editore: Springer Verlag, 2014
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Da: Revaluation Books, Exeter, Regno UnitoRevaluation Books
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Hardcover. Condizione: Brand New. 278 pages. 9.75x6.50x0.75 inches. In Stock.
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Editore: Springer New York, Springer New York, 2014
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Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, GermaniaAHA-BUCH GmbH
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Buch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book describes the basic physical principles of the oxide/semiconductor epitaxy and offers a view of the current state of the field. It shows how this technology enables large-scale integration of oxide electronic and photonic devices and describes…possible hybrid semiconductor/oxide systems. The book incorporates both theoretical and experimental advances to explore the heteroepitaxy of tuned functional oxides and semiconductors to identify material, device and characterization challenges and to present the incredible potential in the realization of multifunctional devices and monolithic integration of materials and devices. Intended for a multidisciplined audience, Integration of Functional Oxides with Semiconductors describes processing techniques that enable atomic-level control of stoichiometry and structure and reviews characterization techniques for films, interfaces and device performance parameters. Fundamental challenges involved in joining covalent and ionic systems, chemical interactions at interfaces, multi-element materials that are sensitive to atomic-level compositional and structural changes are discussed in the context of the latest literature. Magnetic, ferroelectric and piezoelectric materials and the coupling between them will also be discussed. GaN, SiC, Si, GaAs and Ge semiconductors are covered within the context of optimizing next-generation device performance for monolithic device processing.
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Editore: Springer New York, Springer, 2016
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book describes the basic physical principles of the oxide/semiconductor epitaxy and offers a view of the current state of the field. It shows how this technology enables large-scale integration of oxide electronic and photonic devices and des…cribes possible hybrid semiconductor/oxide systems. The book incorporates both theoretical and experimental advances to explore the heteroepitaxy of tuned functional oxides and semiconductors to identify material, device and characterization challenges and to present the incredible potential in the realization of multifunctional devices and monolithic integration of materials and devices. Intended for a multidisciplined audience, Integration of Functional Oxides with Semiconductors describes processing techniques that enable atomic-level control of stoichiometry and structure and reviews characterization techniques for films, interfaces and device performance parameters. Fundamental challenges involved in joining covalent and ionic systems, chemical interactions at interfaces, multi-element materials that are sensitive to atomic-level compositional and structural changes are discussed in the context of the latest literature. Magnetic, ferroelectric and piezoelectric materials and the coupling between them will also be discussed. GaN, SiC, Si, GaAs and Ge semiconductors are covered within the context of optimizing next-generation device performance for monolithic device processing.
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Editore: Springer, 2016
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Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno UnitoMispah books
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Editore: Springer New York Sep 2016, 2016
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Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, GermaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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Taschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book describes the basic physical principles of the oxide/semiconductor epitaxy and offers a view of the current state of the field. It shows how this technology enables large-scale integration of oxide electronic and photonic… devices and describes possible hybrid semiconductor/oxide systems. The book incorporates both theoretical and experimental advances to explore the heteroepitaxy of tuned functional oxides and semiconductors to identify material, device and characterization challenges and to present the incredible potential in the realization of multifunctional devices and monolithic integration of materials and devices. Intended for a multidisciplined audience, Integration of Functional Oxides with Semiconductors describes processing techniques that enable atomic-level control of stoichiometry and structure and reviews characterization techniques for films, interfaces and device performance parameters. Fundamental challenges involved in joining covalent and ionic systems, chemical interactions at interfaces, multi-element materials that are sensitive to atomic-level compositional and structural changes are discussed in the context of the latest literature. Magnetic, ferroelectric and piezoelectric materials and the coupling between them will also be discussed. GaN, SiC, Si, GaAs and Ge semiconductors are covered within the context of optimizing next-generation device performance for monolithic device processing. 288 pp. Englisch.
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Editore: Springer New York Feb 2014, 2014
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Da: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, GermaniaBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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Buch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book describes the basic physical principles of the oxide/semiconductor epitaxy and offers a view of the current state of the field. It shows how this technology enables large-scale integration of oxide electronic and photonic device…s and describes possible hybrid semiconductor/oxide systems. The book incorporates both theoretical and experimental advances to explore the heteroepitaxy of tuned functional oxides and semiconductors to identify material, device and characterization challenges and to present the incredible potential in the realization of multifunctional devices and monolithic integration of materials and devices. Intended for a multidisciplined audience, Integration of Functional Oxides with Semiconductors describes processing techniques that enable atomic-level control of stoichiometry and structure and reviews characterization techniques for films, interfaces and device performance parameters. Fundamental challenges involved in joining covalent and ionic systems, chemical interactions at interfaces, multi-element materials that are sensitive to atomic-level compositional and structural changes are discussed in the context of the latest literature. Magnetic, ferroelectric and piezoelectric materials and the coupling between them will also be discussed. GaN, SiC, Si, GaAs and Ge semiconductors are covered within the context of optimizing next-generation device performance for monolithic device processing. 288 pp. Englisch.
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Da: moluna, Greven, Germaniamoluna
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Da: moluna, Greven, Germaniamoluna
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