Robert p oldham (28 risultati)
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Condizione: Good. Volume 2. This is an ex-library book and may have the usual library/used-book markings inside.This book has hardback covers. Clean from markings. In good all round condition. No dust jacket. Please note the Image in this listing is a stock photo and may not match the covers of the actual item,2950grams, ISBN:97…80781742900.
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Trade Paperback. Condizione: Very Good-. No Dust Jacket. Revised Edition; First Printing. Library stamps/marks/labels, light cock, light edgewear, otherwise light wear. Solid trade paperback.; In this global alternative World War Two, Britain was successfully invaded. It is now 1944, the Allies are about to invade Spain, Hitler…is about to nuke and invade the Soviet Union, and the Japanese have unleashed germ warfare on the West Coast while holding Hawaii. ; Ex-Library; 425 pages.
Principles and Practice of Pediatric Surgery
Oldham, Keith T., M.D., Colombani, Paul M., Foglia, Robert P., M.D., Skinner, Michael A., M.D.
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Process and Device Simulation for M.O.S.-V.L.S.I. Circuits
Antognetti, P. (Editor) / Antoniadis, D.A. (Editor) / Dutton, Robert W. (Editor) / Oldham, W.G. (Editor)
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - P. Antognetti University of Genova, Italy Director of the NATO ASI The key importance of VLSI circuits is shown by the national efforts in this field taking place in several countries at differ ent levels (government agencies, private industries,…defense de partments). As a result of the evolution of IC technology over the past two decades, component complexi ty has increased from one single to over 400,000 transistor functions per chip. Low cost of such single chip systems is only possible by reducing design cost per function and avoiding cost penalties for design errors. Therefore, computer simulation tools, at all levels of the design process, have become an absolute necessity and a cornerstone in the VLSI era, particularly as experimental investigations are very time-consuming, often too expensive and sometimes not at all feasible. As minimum device dimensions shrink, the need to understand the fabrication process in a quanti tati ve way becomes critical. Fine patterns, thin oxide layers, polycristalline silicon interco~ nections, shallow junctions and threshold implants, each become more sensitive to process variations. Each of these technologies changes toward finer structures requires increased understanding of the process physics. In addition, the tighter requirements for process control make it imperative that sensitivities be unde~ stood and that optimation be used to minimize the effect of sta tistical fluctuations.
Process and device simulation for MOS-VLSI circuits
Antognetti, Paolo , Dimitri A. Antoniadis, Robert W. Dutton and Willaim G Oldham (Eds.)
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- Prima edizione
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Original Cloth. 1st Edition. NATO ASI series. Series E, Applied sciences No. 62. 24 x 16 cm., xii, 619 pp. The book is covered in white cloth with black lettering on the spine and front. CONDITION. VG+/ no dj. The pages are clean and tight. The corners and ends of the spine are lightly rubbed. Library marks and labels on spine a…nd front end papers. Library stamps on page edges. Ex-Library.
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Taschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -P. Antognetti University of Genova, Italy Director of the NATO ASI The key importance of VLSI circuits is shown by the national efforts in this field taking place in several countries at differ ent levels (government agencies, priv…ate industries, defense de partments). As a result of the evolution of IC technology over the past two decades, component complexi ty has increased from one single to over 400,000 transistor functions per chip. Low cost of such single chip systems is only possible by reducing design cost per function and avoiding cost penalties for design errors. Therefore, computer simulation tools, at all levels of the design process, have become an absolute necessity and a cornerstone in the VLSI era, particularly as experimental investigations are very time-consuming, often too expensive and sometimes not at all feasible. As minimum device dimensions shrink, the need to understand the fabrication process in a quanti tati ve way becomes critical. Fine patterns, thin oxide layers, polycristalline silicon interco~ nections, shallow junctions and threshold implants, each become more sensitive to process variations. Each of these technologies changes toward finer structures requires increased understanding of the process physics. In addition, the tighter requirements for process control make it imperative that sensitivities be unde~ stood and that optimation be used to minimize the effect of sta tistical fluctuations. 636 pp. Englisch.
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Process and Device Simulation for MOS-VLSI Circuits
Antognetti, P.|Antoniadis, D. A.|Dutton, Robert W.|Oldham, W. G.
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Condizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Proceedings of the NATO Advanced Study Institute on Process and Device Simulation for MOS-VLSI Circuits, Sogesta, Urbino, Italy, July 12-23, 1982 P. Antognetti University of Genova, Italy Director of the NATO ASI The… key importance of VLSI circuits is.
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Taschenbuch. Condizione: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -P. Antognetti University of Genova, Italy Director of the NATO ASI The key importance of VLSI circuits is shown by the national efforts in this field taking place in several countries at differ ent levels (government agencies, private…industries, defense de partments). As a result of the evolution of IC technology over the past two decades, component complexi ty has increased from one single to over 400,000 transistor functions per chip. Low cost of such single chip systems is only possible by reducing design cost per function and avoiding cost penalties for design errors. Therefore, computer simulation tools, at all levels of the design process, have become an absolute necessity and a cornerstone in the VLSI era, particularly as experimental investigations are very time-consuming, often too expensive and sometimes not at all feasible. As minimum device dimensions shrink, the need to understand the fabrication process in a quanti tati ve way becomes critical. Fine patterns, thin oxide layers, polycristalline silicon interco~ nections, shallow junctions and threshold implants, each become more sensitive to process variations. Each of these technologies changes toward finer structures requires increased understanding of the process physics. In addition, the tighter requirements for process control make it imperative that sensitivities be unde~ stood and that optimation be used to minimize the effect of sta tistical fluctuations.Springer-Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 636 pp. Englisch.
