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![Immagine del venditore per Size Dependence of Photolithographic Defect Density Distribution; and, A Method for LSI Modeling and Process Monitoring (Two Monographs) [plus related documents] venduto da Crossroad Books](https://pictures.abebooks.com/inventory/md/md31273180545.jpg)
Size Dependence of Photolithographic Defect Density Distribution; and, A Method for LSI Modeling and Process Monitoring (Two Monographs) [plus related documents]
Editore: Charles H. Stapper, 1975
Da: Crossroad Books, Eau Claire, WI, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Stapled sheets. Condizione: Very Good-. Condizione sovraccoperta: No Dust Jacket. Sheets stapled at top corner. Two monograph copies. These appears to be preliminary version of these papers on IC yields. "Size Dependence." is authored by Stapper, Thomas, and Dennard, and is 16 single-sided sheets. "Method." is authored by Stapper, and is 26 single-sided sheets. Also included are two letters dated June 24 and August 29, 1975; from Stapper to another industry expert concerning feedback about the papers. Rust stains from paper-clips at the top edges. Else a bit age-toned, but clean. ; 27C; 11" x 8-1/2".
