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9780081003541 - Materials and Processes for Next Generation Lithography: Volume 11 (15 risultati)
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience): Volume 11
Libro 11 di 21: ISSNDa: Chiron Media, Wallingford, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 137,92
Spedizione EUR 17,90
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience)
Libro 11 di 21: ISSNDa: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 156,57
Spedizione EUR 7,51
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNDa: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 185,03
Spedizione EUR 2,27
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience)
Libro 11 di 21: ISSNDa: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 634.
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience)
Libro 11 di 21: ISSNDa: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 184,38
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Volume 11) (Frontiers of Nanoscience, Volume 11)
Libro 11 di 21: ISSNDa: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 190,79
Spedizione EUR 13,85
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNDa: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 190,78
Spedizione EUR 17,34
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNDa: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 216,45
Spedizione EUR 2,27
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNDa: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 213,30
Spedizione EUR 17,34
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNLingua: Inglese
Editore: Elsevier Health Sciences, GB, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 243,89
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
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EUR 226,86
Spedizione EUR 48,99
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNLingua: Inglese
Editore: Elsevier Health Sciences, GB, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 231,40
Spedizione EUR 75,13
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloHardback. Condizione: New. As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNLingua: Inglese
Editore: Elsevier Science & Technology Nov 2016, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
EUR 317,77
Spedizione EUR 67,35
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
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Materials and Processes for Next Generation Lithography: Volume 11
Libro 11 di 21: ISSNDa: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italia
Valutazione del venditore 3 su 5 stelle
EUR 125,74
Spedizione EUR 11,00
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Libro 11 di 21: ISSNDa: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 158,82
Spedizione EUR 17,34
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloHardcover. Condizione: Brand New. 608 pages. 9.25x7.50x1.50 inches. In Stock. This item is printed on demand.
