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sensor based modeling monitoring chemical di rao prahalada (11 risultati)
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New.
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: Lucky's Textbooks, Dallas, TX, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New.
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 72,09
EUR 13,63 per la spedizione da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing: Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics (Chaos Theory) Paradigms
Editore: VDM Verlag Dr. M�ller 2008-12-03, 2008
ISBN 10: 363903564X ISBN 13: 9783639035643
Lingua: Inglese
Da: Chiron Media, Wallingford, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 71,09
EUR 17,62 per la spedizione da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 10 disponibili
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 72,07
EUR 17,06 per la spedizione da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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EUR 70,00 per la spedizione da Germania a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing | Analysis of Experimental Sensor Data Integrating Statistical Time Series Analysis and Nonlinear Dynamics (Chaos Theory) Paradigms | Prahalada Rao | Taschenbuch | Kartoniert | Englisch | 2008 | VDM Verlag Dr. Müller | EAN 9783639035643 | Verantwortliche Person für die EU: OmniScriptum GmbH & Co. KG, Bahnhofstr. 28, 66111 Saarbrücken, info[at]akademikerverlag[dot]de | Anbieter: preigu.
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
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EUR 17,06 per la spedizione da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno Unito
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EUR 28,44 per la spedizione da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
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Sensor-based Modeling and Monitoring of Chemical Mechanical Polishing
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 179,90
EUR 2,28 per la spedizione in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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EUR 71,14
EUR 48,99 per la spedizione da Germania a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. This book provides a framework for real time controlof the Chemical Mechanical Planarization (CMP)process based on combining nonlinear dynamicsprinciples with statistical process monitoringapproaches. CMP has a directbearing on.
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EUR 80,77
EUR 65,00 per la spedizione da Germania a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - This book provides a framework for real time controlof the Chemical Mechanical Planarization (CMP)process based on combining nonlinear dynamicsprinciples with statistical process monitoringapproaches. CMP has a directbearing on the computational speed and dimensionalcharacteristics of solid state devices. The challengein CMP may be narrowed to domains envelopingproductivity, measured in terms of material removalrate (MRR), and quality which is usually specified interms of surface roughness - Ra, within wafernon-uniformity (WIWNU), defect rate, etc. In thiswork, experimental investigations of CMP are executedwith the aid of sensors. The analysis of the datareveals the presence of pronounced stochastic-dynamiccharacteristics. As a result, we derive a processcontrol method integrating statistical time seriesanalysis and nonlinear dynamics which captures ~ 80%(linear R-sq) of the variation in MRR. In this mannera novel paradigm for effective process control in CMPhas been presented.
