Ryssel heiner (47 risultati)
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Hardcover. Condizione: Very Good. Hardcover in VG condition: slight handling, owner's name neatly rubberstamped on the upper page edges, otherwise unmarked. 556 pages, slightly age-yellowed. [2.1 lbs]. Book.
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Da: books4less (Versandantiquariat Petra Gros GmbH & Co. KG), Welling, Germaniabooks4less (Versandantiquariat Petra Gros GmbH & Co. KG)
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gebundene Ausgabe. Condizione: Gut. 372 Seiten Das hier angebotene Buch stammt aus einer teilaufgelösten wissenschaftlichen Bibliothek und trägt die entsprechenden Kennzeichnungen (Rückenschild, Instituts-Stempel.). Buchschnitt und Seitenränder alters-/papierbedingt angebräunt; Einbandkanten leicht bestossen; Der Buchzustand ist… ansonsten ordentlich und dem Alter entsprechend gut. Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 660.
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - SISDEP '95 provides an international forum for the presentation of state-of-the-art research and development results in the area of numerical process and device simulation. Continuously shrinking device dimensions, the use of new materials, and ad…vanced processing steps in the manufacturing of semiconductor devices require new and improved software. The trend towards increasing complexity in structures and process technology demands advanced models describing all basic effects and sophisticated two and three dimensional tools for almost arbitrarily designed geometries. The book contains the latest results obtained by scientists from more than 20 countries on process simulation and modeling, simulation of process equipment, device modeling and simulation of novel devices, power semiconductors, and sensors, on device simulation and parameter extraction for circuit models, practical application of simulation, numerical methods, and software.
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - The conference ESSDERC '89 held in September 1989 in Berlin was concerned with the physics, electrical characteristics, reliability and processing of solid state devices and electronic materials. The proceedings contain all invited and contributed… papers of the conference and thus becomes a state-of-the-art-report of solid state device research in Europe 1989.
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Condizione: New. SISDEP 95 provides an international forum for the presentation of state-of-the-art research and development results in the area of numerical process and device simulation. Continuously shrinking device dimensions, the use of new materials, and advanced proc.
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Hardcover. Condizione: Brand New. 1st edition. 516 pages. 9.61x6.69x1.13 inches. In Stock.
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Condizione: New. Num Pages: black & white illustrations, bibliography. BIC Classification: TBC. Category: (G) General (US: Trade). Dimension: 244 x 170 x 19. Weight in Grams: 585. . 1978. Paperback / so. . . . .
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Paperback. Condizione: Brand New. reprint edition. 366 pages. German language. 9.60x6.69x0.75 inches. In Stock.
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Condizione: New. Num Pages: black & white illustrations, bibliography. BIC Classification: TBC. Category: (G) General (US: Trade). Dimension: 244 x 170 x 19. Weight in Grams: 585. . 1978. Paperback / so. . . . . Books ship from the US and Ireland.
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Lingua: Tedesco
Editore: Vieweg+Teubner Verlag, Vieweg+Teubner Verlag, 1978
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bücher zum Thema Ionenimplanta tion, die sich fast ausschließlich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation tätige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einräumen. Im…Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Veränderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation für ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung muß deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abriß der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptsächlich verwendeten Meß methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natürlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Möglich keiten der Implantation eingegangen.
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Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno UnitoMispah books
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