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defect recognition image processing di doneker (8 risultati)
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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997: Proceedings of the seventh conference on Defect Recognition and Image Processing, . 160 (Institute of Physics Conference Series)
Da: Chiron Media, Wallingford, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 334,27
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Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 548.
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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 432,21
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Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
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EUR 320,81
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Aggiungi al carrelloGebunden. Condizione: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Doneker, J.Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997 provides a valuable overview of current techniques used to assess, monitor, and characterize defects from the atomic scale to inhomogeneities in complete silicon wafers. This .
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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
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EUR 391,83
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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997
Da: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Regno Unito
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EUR 423,33
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Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997
Da: PBShop.store US, Wood Dale, IL, U.S.A.
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EUR 548,37
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Aggiungi al carrelloBuch. Condizione: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Defect Recognition and Image Processing in Semiconductors 1997 provides a valuable overview of current techniques used to assess, monitor, and characterize defects from the atomic scale to inhomogeneities in complete silicon wafers. This volume addresses advances in defect analyzing techniques and instrumentation and their application to substrates, epilayers, and devices. The book discusses the merits and limits of characterization techniques; standardization; correlations between defects and device performance, including degradation and failure analysis; and the adaptation and application of standard characterization techniques to new materials. It also examines the impressive advances made possible by the increase in the number of nanoscale scanning techniques now available. The book investigates defects in layers and devices, and examines the problems that have arisen in characterizing gallium nitride and silicon carbide.
