Demkov (119 risultati)
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Editore: New York/Heidelberg/Dordrecht, Springer., 2014
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24 cm. X, 278 p. Hardcover. Versand aus Deutschland / We dispatch from Germany via Air Mail. Einband bestoßen, daher Mängelexemplar gestempelt, sonst sehr guter Zustand. Imperfect copy due to slightly bumped cover, apart from this in very good condition. Stamped. Sprache: Englisch.
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Editore: Oxford, Pergamon Press, ,, 1963
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Editore: Macmillan Company, NY, 1963
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- Prima edizione
Da: Dorley House Books, Inc., Hagerstown, MD, U.S.A.Dorley House Books, Inc.
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Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, U.S.A.Romtrade Corp.
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Lingua: Inglese
Editore: Springer New York, 2016
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Condizione: Very Good. : Este libro trata sobre la integración de óxidos funcionales con semiconductores. Cubre temas como los semiconductores de óxido metálico, la epitaxia y el recubrimiento de óxido. Publicado por Springer New York en 2016, el libro tiene 278 páginas y está escrito en inglés. EAN: 9781493941698 Tipo: Libros Categoría: Tecnología|Ciencias Título: Integration of Functional Oxides with Semiconductors Autor: Alexander A. Demkov| Agham B. Posadas Editorial: Springer New York Idioma: en Páginas: 278 Formato: Tapa blanda Año de publicación: 2016. …
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Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, GermaniaAHA-BUCH GmbH
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.…
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Da: Books Puddle, Woodside, NY, U.S.A.Books Puddle
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Condizione: New. pp. 300.
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Paperback. Condizione: Brand New. reprint edition. 296 pages. 10.00x7.00x0.68 inches. In Stock.
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Condizione: Used. pp. 290.
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: Majestic Books, Hounslow, Regno UnitoMajestic Books
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Condizione: Used. pp. 290 146 Illus. (113 Col.).
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Da: Books Puddle, Woodside, NY, U.S.A.Books Puddle
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Condizione: New. pp. 296.
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: Biblios, frankfurt am main, HESSE, GermaniaBiblios
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Condizione: Used. pp. 290.
Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Butterbaugh, J. (EDT); Demkov, a (EDT); Harris, R. (EDT); Rachmady, W. (EDT); Taylor, B. (EDT)
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Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.GreatBookPrices
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Da: California Books, Miami, FL, U.S.A.California Books
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Condizione: New.
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.GreatBookPrices
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Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno UnitoGreatBookPricesUK
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EUR 17,60 spedizioneSpedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2014
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Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno UnitoRia Christie Collections
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Da: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Regno UnitoPBShop.store UK
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HRD. Condizione: New. New Book. Shipped from UK. Established seller since 2000.
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Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno UnitoMispah books
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EUR 29,33 spedizioneSpedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibile
Paperback. Condizione: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
Cmos Gate-stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
. Ed(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy
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Da: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, IrlandaKennys Bookshop and Art Galleries Ltd.
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EUR 9,50 spedizioneSpedito da Irlanda a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Condizione: New. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. Editor(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy. Series: MRS Proceedings. Num Pages: 194 pages, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (U) Tertiary Education (US: College). Dimension: 228 x 152 x 13. Weight in Grams: 430. . 2009. Hardback. . . . . …
Lingua: Inglese
Editore: Springer, 2016
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Da: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, GermaniaAHA-BUCH GmbH
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EUR 35,00 spedizioneSpedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibile
Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book describes the basic physical principles of the oxide/semiconductor epitaxy and offers a view of the current state of the field. It shows how this technology enables large-scale integration of oxide electronic and photonic devices and describes possible hybrid semiconductor/oxide systems. The book incorporates both theoretical and experimental advances to explore the heteroepitaxy of tuned functional oxides and semiconductors to identify material, device and characterization challenges and to present the incredible potential in the realization of multifunctional devices and monolithic integration of materials and devices. Intended for a multidisciplined audience, Integration of Functional Oxides with Semiconductors describes processing techniques that enable atomic-level control of stoichiometry and structure and reviews characterization techniques for films, interfaces and device performance parameters. Fundamental challenges involved in joining covalent and ionic systems, chemical interactions at interfaces, multi-element materials that are sensitive to atomic-level compositional and structural changes are discussed in the context of the latest literature. Magnetic, ferroelectric and piezoelectric materials and the coupling between them will also be discussed. GaN, SiC, Si, GaAs and Ge semiconductors are covered within the context of optimizing next-generation device performance for monolithic device processing.…
