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paperback. Condizione: Good.
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Paperback. Condizione: Good. Connecting readers with great books since 1972! Used textbooks may not include companion materials such as access codes, etc. May have some wear or writing/highlighting. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
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Paperback. Condizione: Acceptable. Connecting readers with great books since 1972. Used textbooks may not include companion materials such as access codes, etc. May have condition issues including wear and notes/highlighting. We ship orders daily and Customer Service is our top priority!
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Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT47)
Da: ThriftBooks-Atlanta, AUSTELL, GA, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Paperback. Condizione: Good. No Jacket. Pages can have notes/highlighting. Spine may show signs of wear. ~ ThriftBooks: Read More, Spend Less.
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Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT47)
Da: Goodwill Books, Hillsboro, OR, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: acceptable. Fairly worn, but readable and intact. If applicable: Dust jacket, disc or access code may not be included.
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Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT47)
Da: thebookforest.com, San Rafael, CA, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: Very Good. Wraps are firm, text block clean, without highlights/underlining or markings. Some rubbing/curling to wraps. Very clean, very nice example. Well packaged and promptly shipped from California. Partnered with Friends of the Library since 2010.
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Ethnicity and Well-Being in Central Canada. The Case of Ontario and Toronto (Kanada-Projekt II).
Lingua: Inglese
Editore: Marburg, Geographisches Institut der Universität Marburg,, 1983
ISBN 10: 3883530166 ISBN 13: 9783883530161
Da: Antiquariat Matthias Drummer, Berlin, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 10,00
Spedizione EUR 37,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloXIV, 192 Seiten, Aus der Reihe Marburger Geographische Schriften, Heft 92. Mit zahlreichen Karten, Tabellen und Literaturverzeichnis. Alle Beiträge in englischer Sprache. Die oberen Einbandecken sind bestoßen, sonst ordentliches und sauberes Exemplar Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 416 Original-Broschur, 16x23cm, Zustand: 3.
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Ethnicity and Well-Being in Central Canada. The Case of Ontario and Toronto (Kanada-Projekt II). In: Marburger Geographische Studien. Heft 92.
Lingua: Inglese
Editore: Marburg, Selbstverlag,, 1983
Da: Buch & Cafe Antiquarius, Bonn, NRW, Germania
Membro dell'associazione: GIAQ
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Prima edizione
EUR 6,00
Spedizione EUR 42,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloGr.-8°, OBrosch. 1. Aufl. XIV, 192 S. Schönes Ex. Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 0.
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Ethnicity and Well-Being in Central Canada. The Case of Ontario and Toronto. (Kanada-Projekt II).
Editore: Selbstverlag des Geographischen Instituts der Universität Marburg., Marburg., 1983
ISBN 10: 3883530166 ISBN 13: 9783883530161
Da: antiquariat RABENSCHWARZ, Braunschweig, Germania
Membro dell'associazione: GIAQ
Valutazione del venditore 3 su 5 stelle
EUR 7,84
Spedizione EUR 25,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloOBroschur / Karton. XIV, 192 Seiten mit wenigenTabellen und Graphiken. Erschien in der Reihe: Marbuger Geographische Schriften, Heft 92. Guter Zustand. Size: 8°.
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Alfred Wong Partnership
Da: SKULIMA Wiss. Versandbuchhandlung, Westhofen, Germania
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 9,50
Spedizione EUR 40,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 7 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: Wie Neu. Zustandsbeschreibung: leichte Lagerspuren. Innovation and Knowledge. 99 Seiten mit 73 Farb- und 18 s/w-Abb., broschiert (L'Arca Edizioni 1999). Früher EUR 21,50. Gewicht: 708 g - Softcover/Taschenbuch.
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Optical Imaging In Projection Microlithography
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Optical Imaging in Projection Microlithography
Da: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 81,24
Spedizione gratuita
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. illustrated Edition. Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.
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Optical Imaging In Projection Microlithography
Da: GreatBookPrices, Columbia, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Condizione: New.
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Optical Imaging in Projection Microlithography
Lingua: Inglese
Editore: SPIE - International Society for Optical Engineering, 2005
ISBN 10: 0819458295 ISBN 13: 9780819458292
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 73,50
Spedizione EUR 7,53
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. pp. xix + 254 Illus.
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Optical Imaging in Projection Microlithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT66)
Da: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irlanda
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 72,01
Spedizione EUR 10,50
Spedito da Irlanda a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. An integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that covers the full spectrum of the important concepts. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the development, technologists can gather concepts and the equations that result. The casual reader will gain a perspective. Series: Tutorial Texts. Num Pages: 276 pages, Illustrations. BIC Classification: TJFC; TTB. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly. Dimension: 253 x 181 x 18. Weight in Grams: 662. . 2005. illustrated edition. Paperback. . . . .
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Optical Imaging in Projection Microlithography
Da: PBShop.store UK, Fairford, GLOS, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 79,84
Spedizione EUR 5,82
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloPAP. Condizione: New. New Book. Shipped from UK. Established seller since 2000.
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Optical Imaging in Projection Microlithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT66)
Da: Kennys Bookstore, Olney, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. An integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that covers the full spectrum of the important concepts. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the development, technologists can gather concepts and the equations that result. The casual reader will gain a perspective. Series: Tutorial Texts. Num Pages: 276 pages, Illustrations. BIC Classification: TJFC; TTB. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly. Dimension: 253 x 181 x 18. Weight in Grams: 662. . 2005. illustrated edition. Paperback. . . . . Books ship from the US and Ireland.
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Optical Imaging in Projection Microlithography
Lingua: Inglese
Editore: SPIE - International Society for Optical Engineering, 2005
ISBN 10: 0819458295 ISBN 13: 9780819458292
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. xix + 254.
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Optical Imaging in Projection Microlithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT66)
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 75,82
Spedizione EUR 14,49
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. illustrated edition. 276 pages. 9.75x6.75x0.50 inches. In Stock.
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Optical Imaging In Projection Microlithography
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 74,51
Spedizione EUR 17,38
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Optical Imaging In Projection Microlithography
Da: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 77,29
Spedizione EUR 17,38
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: As New. Unread book in perfect condition.
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Optical Imaging in Projection Microlithography
Da: THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 74,54
Spedizione EUR 20,48
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 3 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback / softback. Condizione: New. New copy - Usually dispatched within 4 working days.
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Resolution Enhancement Techniques in Optical Lithography (SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering Vol. TT47)
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 87,20
Spedizione EUR 14,49
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 1st edition. 234 pages. 10.00x7.25x0.50 inches. In Stock.
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Optical Imaging in Projection Microlithography
Da: Rarewaves.com UK, London, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 74,52
Spedizione EUR 75,32
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 2 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New. illustrated Edition. Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.
