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Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues (MRS Proceedings)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: California Books, Miami, FL, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 41,61
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Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
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Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces VIII. (=Solid State Phenomena ; 134).
Da: Antiquariat Thomas Haker GmbH & Co. KG, Berlin, Germania
Membro dell'associazione: GIAQ
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
AffareEUR 28,08
Spedizione EUR 20,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloSoftcover/Paperback. 400 p. Very good. Shrink wrapped. / Sehr guter Zustand. In Folie verschweißt. Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 760.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues (MRS Proceedings)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Ria Christie Collections, Uxbridge, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 38,06
Spedizione EUR 13,86
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. In.
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ChemicalMechanical Polishing 2000 ? Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 (MRS Proceedings)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press 2014-06-05, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Chiron Media, Wallingford, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 34,21
Spedizione EUR 17,92
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 10 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: New.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 (MRS Proceedings)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irlanda
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 43,23
Spedizione EUR 10,50
Spedito da Irlanda a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press CUP, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
Condizione: New. pp. 176.
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Ultra Clean Processing of Semicounductor Surfaces IX. (=Solid State Phenomena; Vols. 145-146).
Da: Antiquariat Thomas Haker GmbH & Co. KG, Berlin, Germania
Membro dell'associazione: GIAQ
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Prima edizione
AffareEUR 35,28
Spedizione EUR 20,00
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Wie neu. 1st ed. 412 S.; Ill. Like new. Shrink wrapped. Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 825.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 ? Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 (MRS Proceedings)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Kennys Bookstore, Olney, MD, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 53,16
Spedizione EUR 9,02
Spedito in U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New.
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Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (Solid State Phenomena)
Da: Alplaus Books, Alplaus, NY, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Paperback. Condizione: Good. Solid State Phenomena, Vols. 65-66. Name on first page, else no markings noted. Gentle usage wear.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 Fundamentals and Materials Issues : Volume 613
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
EUR 52,69
Spedizione EUR 61,33
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloTaschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. Other emerging applications for this technology include flat-panel displays, magnetic data storage and microelectromechanical systems. The rapid emergence of copper as the conducting material for integrated circuits has further pushed CMP technology to the forefront of semiconductor manufacturing. However, a basic understanding of the CMP process, which is necessary to enable further advances, is inadequate. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. Topics include: CMP mechanisms; dielectric and metal CMP; process integration and manufacturability; and CMP consumables.
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Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces V: Proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces (Ucpss 2002) . September 2002 (Solid State Phenomena)
Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 253,78
Spedizione EUR 28,92
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
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Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces IX: Ucpss 2008, 9th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces . September 22-24, 2008 (Solid State Phenomena)
Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 346,72
Spedizione EUR 28,92
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
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Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces 2000 (Solid State Phenomena)
Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 390,80
Spedizione EUR 28,92
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Like New. LIKE NEW. SHIPS FROM MULTIPLE LOCATIONS. book.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 (Paperback)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, Cambridge, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Grand Eagle Retail, Bensenville, IL, U.S.A.
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
Paperback. Condizione: new. Paperback. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. Other emerging applications for this technology include flat-panel displays, magnetic data storage and microelectromechanical systems. The rapid emergence of copper as the conducting material for integrated circuits has further pushed CMP technology to the forefront of semiconductor manufacturing. However, a basic understanding of the CMP process, which is necessary to enable further advances, is inadequate. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. Topics include: CMP mechanisms; dielectric and metal CMP; process integration and manufacturability; and CMP consumables. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. This item is printed on demand. Shipping may be from multiple locations in the US or from the UK, depending on stock availability.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Revaluation Books, Exeter, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 35,36
Spedizione EUR 11,57
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: Brand New. 176 pages. 9.00x6.00x0.40 inches. In Stock. This item is printed on demand.
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Michel Mouffe .
Da: Antiquariaat Wim de Goeij, Kalmthout, ANTW, Belgio
Membro dell'associazione: ILAB
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 49,00
Spedizione EUR 34,80
Spedito da Belgio a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrello2. Bruxelles, Editions Labor, Editions Isy Brachot, 1992, in-4°, 143 pp, coloured ills., publisher's cased binding with an illustrated dust jacket. Text in French but with translations in English, German and Dutch.
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Michel Mouffe.
Da: Antiquariaat Wim de Goeij, Kalmthout, ANTW, Belgio
Membro dell'associazione: ILAB
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 56,00
Spedizione EUR 34,80
Spedito da Belgio a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrello3. Bruxelles, Editions Labor, Editions Isy Brachot, 1992, in-4°, 143 pp, coloured ills., publisher's cased binding with an illustrated dust jacket. Text in French but with translations in English, German and Dutch.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 - Fundamentals and Materials Issues: Volume 613
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: THE SAINT BOOKSTORE, Southport, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 41,15
Spedizione EUR 15,21
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: Più di 20 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback / softback. Condizione: New. This item is printed on demand. New copy - Usually dispatched within 5-9 working days.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Majestic Books, Hounslow, Regno Unito
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 50,55
Spedizione EUR 7,52
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. Print on Demand pp. 176.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Germania
Valutazione del venditore 4 su 5 stelle
EUR 51,70
Spedizione EUR 9,95
Spedito da Germania a U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Aggiungi al carrelloCondizione: New. PRINT ON DEMAND pp. 176.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 (Paperback)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, Cambridge, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: CitiRetail, Stevenage, Regno Unito
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 44,66
Spedizione EUR 42,80
Spedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
Aggiungi al carrelloPaperback. Condizione: new. Paperback. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. Other emerging applications for this technology include flat-panel displays, magnetic data storage and microelectromechanical systems. The rapid emergence of copper as the conducting material for integrated circuits has further pushed CMP technology to the forefront of semiconductor manufacturing. However, a basic understanding of the CMP process, which is necessary to enable further advances, is inadequate. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. Topics include: CMP mechanisms; dielectric and metal CMP; process integration and manufacturability; and CMP consumables. Chemical-mechanical polishing (CMP) is a critical technology in the planarization of multilevel metallization systems and shallow-trench isolation in semiconductor manufacturing. This book, first published in 2001, provides an insight into the fundamental processes in CMP. Presentations from academia, government institutions and industry are featured. This item is printed on demand. Shipping may be from our UK warehouse or from our Australian or US warehouses, depending on stock availability.
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 Fundamentals and Materials Issues
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, 2013
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
EUR 42,05
Spedizione EUR 48,99
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Chemical-Mechanical Polishing 2000 Fundamentals and Materials Issues: Volume 613 (Paperback)
Libro 49 di 101: Chhota BheemLingua: Inglese
Editore: Cambridge University Press, Cambridge, 2014
ISBN 10: 1107413141 ISBN 13: 9781107413146
Da: AussieBookSeller, Truganina, VIC, Australia
Valutazione del venditore 5 su 5 stelle
EUR 64,46
Spedizione EUR 31,80
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