Ronald j gutmann (46 risultati)

Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses. Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology.
Borst, Christopher Lyle, William N. Gill and Ronald J. Gutmann:
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On Risk and Disaster: Lessons from Hurricane Katrina
Daniels, Ronald J. [Editor]; Kettl, Donald F. [Editor]; Kunreuther, Howard [Editor]; Gutmann, Amy [Contributor];
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Chemical-Mechanical Polishing Of Low Dielectric Constant Polymers And Organosilicate Glasses (Hb)
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical-Mechanical Polishing Of Low Dielectric Constant Polymers And Organosilicate Glasses (Hb)
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Condizione: Good. : Este libro es una guía completa sobre el estado del arte y la dirección futura de la tecnología de interconexión de cobre. Debido a sus ventajas de rendimiento, la metalización de cobre para la interconexión de circuitos integrados está atrayendo un gran interés en la comunidad de semiconductores en todo el mundo. Los autores se basan en más de una década de participación en la investigación de interconexión de cobre, integrando grandes cantidades de conocimiento disponible y aclarando la conexión entre los principios mecanicistas y las tecnologías relevantes. Cuenta con amplias referencias, tablas y más de 100 ilustraciones, incluyendo el patrón de doble Damasceno necesario para las interconexiones de cobre. EAN: 9780471252566 Tipo: Libros Categoría: Tecnología|Ciencias Título: Copper-Fundamental Mechanisms for Microelectronic Applications Autor: Shyam P. Murarka| Igor V. Verner| Ronald J. Gutmann Editorial: Wiley-Interscience Idioma: en Páginas: 384 Formato: tapa dura.…

On Risk and Disaster: Lessons from Hurricane Katrina
Ronald J. Daniels|Donald F. Kettl|Howard Kunreuther|Amy Gutmann
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Condizione: New. Leading experts address questions of public and private roles in assessing, managing, and mitigating major risks to public health and safety in light of the devastation caused by Hurricane Katrina.Über den AutorRonald J. Daniels.

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Chemical-mechanical Polishing Of Low Dielectric Constant Polymers And Organosilicate Glasses: Fundamental Mechanisms And Application To Ic Interconnect Technology
Borst, Christopher Lyle; Gill, William N.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials
Steigerwald, Joseph M.; Murarka, Shyam P.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials
Steigerwald, Joseph M.; Murarka, Shyam P.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials
Steigerwald, Joseph M.; Murarka, Shyam P.; Gutmann, Ronald J.
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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses: Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses: Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology
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Taschenbuch. Condizione: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Three-dimensional (3D) integration is clearly the simplest answer to most of the semiconductor industry's vexing problems: heterogeneous integration and red- tions of power, form factor, delay, and even cost. Conceptually the power, latency, and form factor of a system with a xed number of transistors all scale roughly linearly with the diameter of the smallest sphere enclosing frequently interacting devices. This clearly provides the fundamental motivation behind 3D technologies which vertically stack several strata of device and interconnect layers with high vertical interconnectivity. In addition, the ability to vertically stack strata with - vergent and even incompatible process ows provides for low cost and low parasitic integration of diverse technologies such as sensors, energy scavengers, nonvolatile memory, dense memory, fast memory, processors, and RF layers. These capabilities coupled with today's trends of increasing levels of integrated functionality, lower power, smaller form factor, increasingly divergent process ows, and functional diversi cation would seem to make 3D technologies a natural choice for most of the semiconductor industry. Since the concept of vertical integration of different strata has been around for over 20 years, why aren't vertically stacked strata endemic to the semiconductor industry The simple answer to this question is that in the past, the 3D advantages while interesting were not necessary due to the tremendous opportunities offered by geometric scaling. In addition, even when the global interconnect problem of high-performance single-core processors seemed insurmountable without inno- tions such as 3D, alternative architectural solutions such as multicores could eff- tivelydelaybutnoteliminatetheneedfor3D. …

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Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.Books Puddle
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EUR 3,43 spedizioneSpedito in U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Condizione: New. pp. 248.

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Da: Books Puddle, New York, NY, U.S.A.Books Puddle
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EUR 3,43 spedizioneSpedito in U.S.A.Quantità: 4 disponibili
Condizione: New. pp. 376.
Altre immagini- Brossura
Da: preigu, Osnabrück, Germaniapreigu
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EUR 70,00 spedizioneSpedito da Germania a U.S.A.Quantità: 5 disponibili
Taschenbuch. Condizione: Neu. Wafer Level 3-D ICS Process Technology | Chuan Seng Tan (u. a.) | Taschenbuch | xii | Englisch | 2010 | Springer Us | EAN 9781441945624 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu. …

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Condizione: New. Merges the complex chemical-mechanical planarization (CMP) models and mechanisms that have evolved over the years with experimental results with copper and low-kappa CMP to develop a comprehensive mechanism for low- and high-removal-rate processes. This book looks into the fundamental reaction kinetics. Num Pages: 229 pages, biography. BIC Classification: TDCP. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly. Dimension: 234 x 156 x 15. Weight in Grams: 532. . 2002. Hardback. . . . .…

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Condizione: New. Merges the complex chemical-mechanical planarization (CMP) models and mechanisms that have evolved over the years with experimental results with copper and low-kappa CMP to develop a comprehensive mechanism for low- and high-removal-rate processes. This book looks into the fundamental reaction kinetics. Num Pages: 229 pages, biography. BIC Classification: TDCP. Category: (P) Professional & Vocational; (UP) Postgraduate, Research & Scholarly. Dimension: 234 x 156 x 15. Weight in Grams: 532. . 2002. Hardback. . . . . Books ship from the US and Ireland.…

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Editore: Springer, 2008
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Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno UnitoMispah books
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Da: Mispah books, Redhill, SURRE, Regno UnitoMispah books
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EUR 257,93
EUR 29,12 spedizioneSpedito da Regno Unito a U.S.A.Quantità: 1 disponibili
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